同位素示踪法是用同位素作为一种标记，制成含有同位素的标记化合物代替相应的
非标记化合物进行化学反应，然后用核探测器随时追踪它在反应产物中的存在形式来确定反应的原理等。
氧化还原反应氧化剂与还原产物、还原剂与氧化产物之间的内在关系也可以利用同位素失踪法进行验证。
（1）H2O2与H2SO4酸化的KMnO4反应，生成K2SO4、MnSO4、H2O和O2，如果H2O2中氧原子是示踪原子（18O），
反应完成后含有示踪原子的物质是________________。
（2）K35ClO3晶体和含有H37Cl的浓盐酸反应生成氯气,已知反应方程式为KClO3＋6HCl（浓）= KCl＋3Cl2↑＋
3H2O，此反应生成氯气的摩尔质量为________________。
（3）某反应体系中共有6种物质，KClO3、KCl、HCl、Cl2、ClO2、H2O，请你设计同位素失踪法确定反应
的方程式并配平：
现有A、B、C、D四种短周期元素，它们的相关结构和性质信息如下表所示，请结合相关信息，完成相关的问题：
| 元素 |
相关结构和性质 |
| A |
其单质的一种晶体不是金属晶体，但是电的良导体，且难熔、质软并有润滑性，可用作原子核反应堆的慢化剂、火箭发动机喷灌和电极材料等。 |
| B |
其单质既能与强酸溶液反应，又能与强碱溶液反应，其简单离子在第三周期单核离子中半径最小。 |
| C |
是蛋白质的组成元素之一，原子核外有三种不同能量的电子，且未成对电子数最多。 |
| D |
原子核外最外层电子排布式为nsnnp2n+1 |
（1）表中所述A的单质晶体中微粒间的相互作用有_____________、_____________。
（2）B元素的氧化物所对应的晶体属于____晶体（填“分子”、“原子”、“离子”、“金属”），工业上制备B元素单质的化学方程式：_______________________。
（3）钠与C元素形成的Na3C晶体中，C元素以C3-存在，C3-的电子排布式为_____________。C元素的气态氢化物溶于水后溶液呈碱性的原因（用方程式表示）_____________（填序号）。
（4）与D同主族的短周期元素，其单质及其化合物与D的单质及化合物均具有的性质为____（填序号）。
A．常温下单质跟水剧烈反应并放出氧气 B．气态氮化物具有很强的热稳定性
C．气态氢化物极易溶于水并呈强酸性 D．在HXO中X的化合价均为+l价
兔耳草醛是食品与化妆品工业中的香料添加剂。工业上可通过有机化工原料A制得，其合成路线如下图所示：
已知：① 2CH2=CH2+O2
2CH3CHO
② CH3CHO+CH3CHO
CH3CH(OH)CH2CHO
完成下列填空：
（1）A的结构简式是 ，B的结构简式是 。
（1）上述合成路线中属于加成反应的有（填写反应编号）。
（1）写出由D获得兔耳草醛的化学反应方程式。
（1）A的同分异构体中符合以下条件的有种。
a．能使FeC13(aq)显紫色
b．能发生加聚反应
c．苯环上只有两个互为对位的取代基
（1）简要写出证明C中含有碳碳双键的实验步骤。
衣康酸M是制备高效除臭剂、粘合剂等多种精细化学品的重要原料，可经下列反应路线得到（部分反应条件已略）。
已知：（1）R-CH2-Cl + NaCN → R-CH2-CN + NaCl
（2）R-CH2-CN + NaOH + H2O → R-CH2-COONa + NH3
完成下列填空：
（1）A的结构简式是，M中官能团的名称是。
（2）如果反应a不完全，可能生成的杂质是（填写结构简式）。
（3）B→ C的化学方程式为。
（4）反应a与反应b的先后次序不能颠倒，解释原因：
。
氮化硅（Si3N4）是一种新型陶瓷材料，它可在高温下的氮气流中由石英与焦炭通过以下反应制得：3SiO2(s) + 6C(s) + 2N2（g）
Si3N4(s) + 6CO(g) + Q（Q>0）
完成下列填空：
（1）某温度下该反应在一容积为2L的密闭容器中进行，2min后达到平衡，刚好有2mol电子发生转移，则2min内反应的速率为：v(CO) = ；该反应的平衡常数表达式为 。
（2）其它条件不变时仅增大压强，则。
a．K值减小，平衡向逆反应方向移动
b．K值增大，平衡向正反应方向移动
c．K值不变，平衡向逆反应方向移动
d．K值不变，平衡向正反应方向移动
（3）一定条件下能说明上述反应已达平衡的是 。
a．c(N2 ) : c(CO) = 1：3 b．3v(N2 ) = v(CO)
c．固体质量不再改变 d．气体密度不再改变
达到平衡后改变某一条件，反应速率v与时间t的关系如图所示。
若不改变N2与CO的量，则图中t4时引起变化的原因可能是 ；图中t6时引起变化的原因可能是。
由图可知，平衡混合物中CO含量最高的时间段是。
铬及其化合物常被应用于冶金、化工、电镀、制药、纺织等行业，但使用后的废水因其中含高价铬的化合物而毒性很强。工业上往往采取下列循环工艺防止铬的污染：
完成下列填空：
（1）含Cr2O72-离子的废水在酸性条件下用Fe3O4处理，反应的离子方程式如下：
Cr2O72- +Fe3O4 +H+ →Cr3+ +Fe3+ +H2O
配平上述离子反应方程式，并标出反应中电子转移的方向和数目。
（2）向上述反应后的溶液中加入碱溶液，让废水的pH升至8～10，控制适当的温度，使产物中的金属阳离子全部转变为沉淀。写出从该沉淀中分离出Cr(OH)3的离子方程式、
。
（3）回收所得的Cr(OH)3，经处理后又可转变成K2Cr2O7。纯净的K2Cr2O7常用于准确测定Na2S2O3溶液的物质的量浓度，方法如下：
① Cr2O72- +6I- + 14H+ →3I2 + 2Cr3+ + 7H2O② 2S2O32- + I2→S4O62- + 2I-
准确称取纯净的K2Cr2O7 0.1225g ，配成溶液，用Na2S2O3溶液滴定，消耗Na2S2O3溶液25.00mL。则Na2S2O3溶液的物质的量浓度为（保留四位有效数字）。