单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为 ： ①SiO2＋ 2 C 
Si ＋ 2 CO
②Si ＋ 2Cl2 SiCl4 ③SiCl4 + 2H2 Si + 4HCl，其中反应①和③都属于
| A．分解反应 | B．化合反应 |
| C．置换反应 | D．复分解反应 |
在一定温度下的密闭容器中存在如下反应2SO2(g)＋O2(g)
2SO3(g)，已知c(SO2)始＝0.4 mol·L－1，c(O2)始＝1 mol·L－1，经测定该反应在该温度下的平衡常数K＝19，则此反应中SO2的转化量为 ( )
| A．0.24 mol·L－1 | B．0.28 mol·L－1 |
| C．0.32 mol·L－1 | D．0.26 mol·L－1 |
下列措施或事实不能用勒夏特列原理解释的是 ( )
| A．新制的氯水在光照下颜色变浅 |
| B．Fe(SCN)3溶液中加入6mol/L NaOH溶液后颜色变浅 |
| C．在合成氨的反应中，降温或加压有利于氨的合成 |
| D．H2、I2、HI平衡混合气加压后颜色变深 |
对于可逆反应2AB3(g)
2A(g)＋3B2(g) ΔH>0，下列图像不正确的是 ( )
在25 ℃、101 kPa下，1 g甲醇燃烧生成CO2和液态水时放热22.68 kJ，下列热化学方程式正确的是 ( )
| A．CH3OH(l)＋O2(g)===CO2(g)＋2H2O(l) ΔH＝＋725.8 kJ/mol |
| B．2CH3OH(l)＋3O2(g)===2CO2(g)＋4H2O(l) ΔH＝－1452 kJ/mol |
| C．2CH3OH(l)＋3O2(g)===2CO2(g)＋4H2O(l) ΔH＝－725.8 kJ/mol |
| D．2CH3OH(l)＋3O2(g)===2CO2(g)＋4H2O(l) ΔH＝＋1452 kJ/mol |
在恒温时，一固定容积的容器内发生如下反应：2NO2（g）
N2O4(g) 达到平衡时，再向容器内通入一定量的NO2（g），重新达到平衡后，与第一次平衡时相比，NO2的体积分数 ( )
| A．不变 | B．增大 | C．减小 | D．无法判断 |