单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计,到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管,其功能远比我们想象的要大的多,这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为 : ①SiO2+ 2 C Si + 2 CO
②Si + 2Cl2 SiCl4 ③SiCl4 + 2H2 Si + 4HCl,其中反应①和③都属于
A.分解反应 | B.化合反应 |
C.置换反应 | D.复分解反应 |
将15.6gNa2O2和5.4gAl同时放入一定量的水中,充分反应后得到200ml溶液,再向该溶液中缓慢通入标准状况下的HCl气体6.72升,若反应过程中溶液的体积保持不变,则下列说法正确的是
A.反应过程中能得到6.72升的气体 |
B.最终得到的溶液中C(Na+)=C(Cl-)+C(OH-) |
C.最终得到15.6g的沉淀 |
D.最终得到的溶液中C(NaCl)=1.5mol/l[ |
在一定条件下,将A、B、C三种炔烃所组成的混合气体4g在催化剂作用下与过量的氢气发生加成反应,可生成4.4 g对应的三种烷烃,则所得烷烃中一定有
A.戊烷 B.丁烷 C.丙烷 D.乙烷
苯在催化剂存在下与液溴反应,而苯酚与溴水即反应,原因
A.苯环与羟基相互影响,使苯环上氢原子活泼了 |
B.苯环与羟基相互影响,使羟基上的氢原子活泼了 |
C.苯环影响羟基,使羟基上的氢原子活泼了 |
D.羟基影响苯环,使苯环上的某些氢原子活泼了 |
常温下就能发生取代反应的是
A.苯酚与溴水 | B.苯和溴水 | C.乙烯和溴水 | D.甲苯和溴水 |
皮肤上沾了少量苯酚,正确的处理方法是
A.先用稀NaOH溶液洗,再用水冲洗 | B.先用水洗,再用酒精冲洗 |
C.先用酒精洗,再用水冲洗 | D.用布擦去后再用水冲洗 |