高锰酸钾是锰的重要化合物和常用的氧化剂。以下是工业上用
软锰矿制备高锰酸钾的一种工艺流程。
（1）KMnO4稀溶液是一种常用的消毒剂。其消毒机理与下列 （填序号）物质相似。
| A．75%酒精 | B．双氧水 | C．苯酚 | D．84消毒液（NaClO溶液） |
（2）写出MnO2、KOH的熔融混合物中通入空气时发生的主要反应的化学方程式：
。
（3）向K2MnO4溶液中通入CO2以制备KMnO4，该反应中的还原剂是： 。
（4）上述流程中可以循环使用的物质有石灰、二氧化碳、 和 （写化学式）。
（5）若不考虑物质循环与制备过程中的损失，则1 mol MnO2可制得 mol KMnO4。
寿山石主要成分为叶蜡石，叶蜡石组成为Al2O3·4SiO2·H2O，下列观点不正确的是( )。
| A．寿山石雕刻作品要避免与酸、碱接触 |
| B．寿山石颜色丰富多彩是因为含有不同形态的金属氧化物 |
| C．潮湿的空气可能导致寿山石作品表面溶解变质 |
| D．置于干燥空气中可能会导致寿山石作品脱水变质 |
下列关于SiO2和CO2的叙述中不正确的是( )。
| A．都是共价化合物 |
| B．SiO2可用于制光导纤维，干冰可用于人工降雨 |
| C．都能溶于水且与水反应生成相应的酸 |
| D．都是酸性氧化物，都能与强碱溶液反应 |
下列说法正确的是( )。
| A．高温下，可在试管内完成焦炭和石英砂(SiO2)制取硅的反应 |
| B．CO2和钠在一定条件下反应可以得到金刚石和碳酸钠，反应中氧化剂和还原剂的物质的量之比是3∶4 |
| C．现代海战通过喷放液体SiCl4(极易水解)和液氨可产生烟幕，其主要成分是NH4Cl |
| D．从燃煤烟道灰中(含GeO2)提取半导体材料单质锗(Ge)，没有发生氧化还原反应 |
在①浓硝酸；②水；③浓硫酸；④氢氟酸；⑤氢氧化钾溶液中，能与单质硅起化学反应的是( )。
| A．①② | B．②④ | C．④⑤ | D．③④ |
硅是构成无机非金属材料的一种主要元素，下列有关硅的化合物的叙述错误的是( )。
A．氮化硅陶瓷是一种新型无机非金属材料，其化学式为Si3N4
B．碳化硅(SiC)的硬度大，熔点高，可用于制作高温结构陶瓷和轴承
C．光导纤维是一种新型无机非金属材料，其主要成分为SiO2
D．二氧化硅为立体网状结构，其晶体中硅原子和硅氧单键的个数之比为1∶2