半导体工业用石英砂做原料，通过三个重要反应生产单质硅：
①SiO2(s)+2C(s) =" Si(s)+2CO(g) " △H =" +682.44" kJ/mol
(石英砂) （粗硅）
②Si(s)+2Cl2(g) = SiCl4(g) △H = -657.01kJ/mol
(粗硅)
③SiCl4(g)+2Mg(s) 
= 2MgCl2(s)+Si(s) △H =" -625.63" kJ/mol
（纯硅）
生产1.00kg纯硅的总反应热为
| A．+2.43×104kJ | B．-2.35×104kJ | C．-2.23×104kJ | D．-2.14×104kJ |
下列离子组中因相互促进水解而不能共存的离子组是（）
A． 、Na+、Cl-、OH- |
B．Al3+、Na+、 、 |
C．H+、Fe2+、 、 |
D．Na+、 、、Cl- |
下列溶液加热蒸干后，不能析出原溶质固体的是（）
| A．Fe2(SO4)3 | B．Na2CO3 | C．FeCl3 | D．KCl |
物质的量浓度相同时，下列既能跟NaOH溶液反应，又能跟盐酸溶液反应的溶液中，pH最大的是（）
| A．Na2CO3溶液 |
| B．NH4HCO3溶液 |
| C．NaHCO3溶液 |
| D．NaHSO4溶液 |
将0.1 mol下列物质置于1 L水中充分搅拌后,溶液中阴离子数最多的是（）
| A．KCl | B．Mg(OH)2 | C．Na2CO3 | D．MgSO4 |
在10 mL 0.1 mol·L-1NaOH溶液中加入同体积、同浓度CH3COOH溶液，反应后溶液中各微粒的浓度关系错误的是（）
| A．c(Na+)＞c(CH3COO-)＞c(H+)＞c(OH-) |
| B．c(Na+)＞c(CH3COO-)＞c(OH-)＞c(H+) |
| C．c(Na+)＝c(CH3COO-)＋c(CH3COOH) |
| D．c(Na+)＋c(H+)＝c(CH3COO-)＋c(OH-) |