某种对苯二甲酸酯常用作塑料增塑剂，其结构简式如图所示。（R表示相同的烃基）。
I．甲同学通过燃烧法确定某对苯二甲酸酯M的含氧量（质量分数）为23%。请回答下列问题：
(1) 请确定M的分子式为______________。
(2) 有关对苯二甲酸酯M的说法正确的是______________。
| A．M能在稀硫酸溶液反应生成醇和羧酸 | |
| B．Imol M在催化剂、加热条件下最多与5mol H2反应 | |
| C．1mol M能与2mol NaOH发生水解反应 | D．M与 互为同系物 |
II．乙同学模拟工业上以烃A为原料合成对苯二甲酸酯M的原理设计如下流程：
请回答下列问题：
(1) 烃A有多种同分异构体,其中含有苯环且只有一个支链的同分异构体的名称是________；
(2) 注明反应类型：反应①______ _；反应③____ ___。
(3) 写出下列反应的化学方程式：
反应②__________________________________________；
反应④__________________________________________
镁和铝分别与等浓度、等体积的过量稀硫酸反应，产生气体的体积(V)与时间(t)关系如图。反应中镁和铝的
| A．物质的量之比为3∶2 |
| B．质量之比为3∶2 |
| C．摩尔质量之比为2∶3 |
| D．反应速率之比为2∶3 |
下列文字表述与反应方程式对应且正确的是
| A．用醋酸除去水垢： CaCO3＋2H＋===Ca2＋＋H2O＋CO2↑ |
B．实验室用液溴和苯在催化剂作用下制溴苯： |
| C．乙烯通入溴水中： CH2===CH2＋Br2 →CH2===CHBr＋HBr |
| D．甲烷气体通入溴水中： CH4＋Br2 →CH3Br＋HBr |
四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：
SiCl4＋2H2
4HCl＋Si
下列说法不合理的是
| A．反应制得的硅可用于制造半导体材料 |
| B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率 |
| C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得 |
| D．混入少量空气对上述反应无影响 |
下列图示与对应的叙述相符的是
| A．图1表示某吸热反应分别在有、无催化剂的情况下反应过程中的能量变化 |
| B．图2表示0.1000 mol·L－1NaOH溶液滴定20.00 mL 0.1000 mol·L－1CH3COOH溶液所得到的滴定曲线 |
| C．图3表示KNO3的溶解度曲线，图中a点所示的溶液是80 ℃时KNO3的不饱和溶液 |
| D．图4表示某可逆反应生成物的量随反应时间变化的曲线，由图知t时刻反应物转化率最大 |
(NH4)2PtCl6晶体受热分解，生成氮气、氯化氢、氯化铵和金属铂。在此分解反应中，氧化产物与还原产物的物质的量之比是
| A．2∶3 | B．3∶2 |
| C．4∶3 | D．1∶3 |