钢铁工业是国家工业的基础。请回答钢铁冶炼、腐蚀、防护过程的有关问题。
（1）工业用热还原法炼铁，写出由CO还原赤铁矿（主要成分为Fe2O3）的化学方程式：
_________________________ 。
（2）生产中可用盐酸来除铁锈。现将一生锈的铁片放入盐酸中，当铁锈被除尽后，溶液中发生的化合反应的化学方程式______________________。
（3）下列哪些装置可防止铁棒被腐蚀_____________ 。
（4）在实际生产中，可在铁件的表面镀铜防止铁被腐蚀。装置示意图如下：
请回答：
① A电极对应的金属是 (写元素名称)，B电极的电极反应式是 。
②镀层破损后，镀铜铁比镀锌铁更容易被腐蚀，请简要说明原因: 。
(12分)硫酸工业尾气中二氧化硫的含量超过0
.05%(体积分数)时需经处理后才能排放。某校化学兴趣小组欲测定某硫酸工厂排放尾气中二氧化硫的含量，分别采用以下方案：
【甲方案】：如右图所示，图中气体流量计B用于准确测量通过的尾气体积。将尾气通入一定体积已知浓度的碘水中测定SO2的含量。当洗气瓶C中溶液蓝色消失时，立即关闭活塞A。
(1)洗气瓶C中导管末端连接一个多孔球泡D，可以提高实验的准确度，其理由是_______________________________________。
(2)洗气瓶C中溶液蓝色消失后，没有及时关闭活塞A，测得的SO2含量____________(填“偏高”、“偏低”或“无影响”)。
【乙方案】：实验步骤如下面流程图所示：
(3)步骤①中过量H2O2的作用是
(4)写出步骤②中反应的化学方程式___________________________________
(5)步骤②中Ba(OH)2是否足量的判断方法是.
_________________________________。
(6)通过的尾气体积为V L(已换算成标准状况)时，该尾气中二氧化硫的含量(体积分数)为_____________________________(用含有V、m的代数式表示)。
(10分) 根据下列框图回答问题（答题时，方程式中的M、E用所对应的元素符号表示）：
⑴写出M溶于稀H2SO4和H2O2混合液的化学方程式：。
⑵某同学取X的溶液，酸化后加入KI、淀粉溶液，变为蓝色。写出与上述变化过程相关的离子方程式：、。
⑶写出Cl2将Z氧化为K2EO4的化学方程式：。
⑷由E制备的E(C2H5)2的结构如右图，其中氢原子的化学环境完全相同。但早期人们却错误地认为它的结构为：
。核磁共振法能够区分这两种结构。在核磁共振氢谱中，正确的结构有种峰，错误的结构有种峰。
(12分)甲、乙、丙、丁四种物质均为下列离子组成的可溶性化合物，组成这四种物质的离子（离子不能重复组合）有：
| 阳离子 |
Ag＋、Mg2＋、Al3＋、Ba2＋ |
| 阴离子 |
Cl－、SO 、NO3－、OH－ |
现进行以下实验，
①将乙的溶液分别加到足量甲、丁两溶液中时均产生稳定的白色沉淀；
②将少量丙溶液滴入丁溶液时产生白色沉淀，当丙过量时沉淀完全溶解；
③甲、丙两溶液混合时产生的白色沉淀，经分析其中含有两种成份。
据此回答下列问题：
（1）写出下列物质的化学式：甲乙
（2）丙的阴离子的电子式是，丁的阳离子的结构示意图是；
（3）写出相应离子方程式：
①甲溶液与丙溶液混合：
②乙溶液与丁溶液混合：
获取知识和信息是现代人不可缺少的素质，信息产业的飞速发展离不开材料科学的推动。
（1）光导纤维是一种能高质量传导光的玻璃纤维，利用光缆通讯，能同时传输大量信息。制造光纤电缆的主要原材料的化学式是____
（2）信息产业的核心材料是高纯度的硅，高纯度的单晶硅生产方法之一：
SiO2
Si（粗硅）
SiHCl3（沸点31．5℃）
Si
超纯硅（多晶硅）
单晶硅
近代用得较多的另一种方法（之二）是：用金属硅化物（Mg2Si）与盐酸作用制得硅烷，再热分解硅烷可得高纯硅。根据上述信息回答以下问题：
从方法一生产单晶硅的过程看，由碳还原得到的硅为何还要进一步处理？
（3）写出方法二中，生产高纯硅的两个化学反应方程式：
①_____________________。②______________
10分）阅读下表中部分短周期主族元素的相关信息，请回答：
| 元素代号 |
相关信息 |
| X |
X的原子最外层电子数是其内层电子数的三倍 |
| Y |
在第三周期的所有金属离子中，Y的离子半径最小 |
| Z |
Z与Y同周期，是所在周期中原子半径最小的元素 |
| T |
T的单质能与冷水剧烈反应，生成的强碱电离出两种电子数相等的阴、阳离子 |
（1）元素T与X按原子个数比1:1形成的化合物B的电子式为，该化合物中所含的化学键有______（填化学键名称）。
（2）单质T与冷水反应的化学方程式为
（3）将Y与Z形成的化合物的水溶液，逐滴加入到T的最高价氧化物对
应水化物的溶液中直至过量（边滴加边振荡），写出此过程中发生反应的离子方程式
， .