在四种不同条件下测得反应2SO2＋O2
2SO3的反应速率如下表所示：
| 编号 |
（1） |
（2） |
（3） |
（4） |
| 反应速率[mol/(L·min)] |
v(SO2) |
v(O2) |
v(SO3) |
v(O2) |
| 0.4 |
0.25 |
0.5 |
0.3 |
其中反应速率最快的是
A．（1） B．（2） C．（3） D．（4）
半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：
①SiO2(s)＋2C(s)===Si(s)＋2CO(g) ΔH＝＋682.44 kJ·mol－1，
(石英砂) (粗硅)
②Si(s)＋2Cl2(g)===SiCl4(g) ΔH＝－657.01 kJ·mol－1
(粗硅)
③SiCl4(g)＋2Mg(s)===2MgCl2(s)＋Si(s) ΔH＝－625.63 kJ·mol－1
(纯硅)
用石英砂生产1.00 kg纯硅的总放热为
| A．2.43×104 kJ | B．2.35×104 kJ | C．2.23×104 kJ | D．2.14×104 kJ |
下列两组热化学方程式中，有关ΔH的比较正确的是
①CH4(g)＋2O2(g)=CO2(g)＋2H2O(g) ΔH1
CH4(g)＋2O2(g)=CO2(g)＋2H2O(l) ΔH2
②NaOH(aq)＋
H2SO4(浓)=Na2SO4(aq)＋H2O(l) ΔH3
NaOH(aq)＋CH3COOH(aq)=CH3COONa(aq)＋H2O(l) ΔH4
| A．ΔH1>ΔH2；ΔH3>ΔH4 | B．ΔH1>ΔH2；ΔH3<ΔH4 |
| C．ΔH1＝ΔH2；ΔH3<ΔH4 | D．ΔH1<ΔH2；ΔH3<ΔH4 |
下列有关叙述正确的是
| A．测定中和热时，大小两烧杯间填满碎纸的作用是固定小烧杯的 |
| B．温度计既可以测量温度，又可以充当搅拌器的作用 |
| C．若用50mL 0.55mo1·L—1的氢氧化钠溶液，分别与50mL 0.50mo1·L—1的盐酸和50mL 0.50mo1·L—1的硫酸充分反应，两反应测定的中和热是相等的 |
| D．测定中和热时，烧杯上的盖子是固定温度计和环形搅拌器的 |
把0.6 mol X气体和0.4 mol Y气体混合于2 L容器中使它们发生如下反应，3X(g)＋Y(g)
nZ(g)＋2W(g)，5 min末已生成0.2 mol W，若测知以Z浓度变化来表示反应的平均速率为0.01 mol/(L·min)，则上述反应中Z气体的反应方程式中化学计量数n的值是
| A．1 | B．2 | C．3 | D．4 |