10分）电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是
SiO2(s)+4HF(g) ==SiF4(g)+2H2O(g) △H(298.15K)=-94.0kJ·mol-1 △S(298.15K)=-75.8J·mol-1 ·K-1 设△H和△S不随温度而变，试求此反应自发进行的温度条件。
某课外活动小组收集了一种合金进行研究。
（1）外观暗灰色，表皮光滑。
（2）在酒精灯上灼烧，火焰呈绿色；合金片熔化，但不滴落。
（3）取刮去表皮的金属10.0 g，放入足量H2SO4中，收集到标准状况下的H29.96 L。
（4）另取刮去表皮的金属10.0 g，放入足量NaOH（aq）中，也收集到标准状况下的H29.96 L。
试据此判断，合金中一定含有的元素是__________（写元素符号）；下列元素可能含有的是__________（填选项编号）。
a.Ag b.Mg c.Na d.Fe
如果该合金中只含两种元素，它们的质量比是______________________________。
在密闭容器中，合成氨反应N2+3H2
2NH3，开始时c（N2）="8" mol ·L-1，c（H2）="20" mol ·L-1,5 min后c′(N2)="6" mol ·L-1。求v（N2）、v（NH3）、v（H2）。