如图甲所示,在磁感应强度为B的匀强磁场中有固定的金属框架ABC,已知∠B=θ,导体棒DE在框架上从B点开始在外力作用下,沿垂直DE方向以速度v匀速向右平移,使导体棒和框架构成等腰三角形回路。设框架和导体棒材料相同,其单位长度的电阻均为R,框架和导体棒均足够长,不计摩擦及接触电阻。关于回路中的电流I和电功率P随时间t变化的下列四个图像中可能正确的是图乙中的( )
A.①③ | B.①④ | C.②③ | D.②④ |
一个气泡由湖面下20m深处上升到湖面下10m深处,它的体积约变为原来的体积的(温度不变,水的密度为1.0×103kg/m3,g取10m/s2)()
A.3倍 | B.2倍 | C.1.5倍 | D.0.7 倍 |
双缝干涉实验装置如图13-4-7所示,调整实验装置使得像屏上可以见到清晰的干涉条纹.关于干涉条纹的情况,下列叙述正确的是( )
图13-4-7
A.若将像屏向右平移一小段距离,屏上仍有清晰的干涉条纹 |
B.若将像屏向左平移一小段距离,屏上的干涉条纹将不会发生变化 |
C.若将像屏向上平移一小段距离,屏上仍有清晰的干涉条纹 |
D.若将像屏向上平移一小段距离,屏上的干涉条纹将不会发生变化 |
如图13-4-6所示的双缝干涉实验,用绿光照射单缝S时,在光屏P上观察到干涉条纹.要得到相邻条纹间距更大的干涉图样,可以( )
图13-4-6
A.增大S1与S2的间距 |
B.减小双缝屏到光屏的距离 |
C.将绿光换为红光 |
D.将绿光换为紫光 |
某同学在实验中,用一束阳光照射单缝,在光屏上没有观察到干涉条纹,移去双缝屏,屏上出现一条较窄的光斑,分析实验失败的原因,最大的可能性是( )
A.单缝的宽度太宽 | B.双缝间的距离太小 |
C.双缝到单缝的距离不相等 | D.阳光不能作光源 |
某同学在做双缝干涉实验时,安装好实验装置,在光屏上却观察不到干涉图样,这可能是由于( )
A.光束的中央轴线与遮光筒不一致,相差较大 |
B.滤光片、单缝、双缝的中心在同一高度 |
C.单缝与双缝不平行 |
D.光源发出的光太强 |