碳化硅(SiC) 、氧化铝(Al₂O₃) 和氮化硅（Si₃N₄）是优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途。宇宙火箭和导弹中，大量用钛代替钢铁。
(1)Al的离子结构示意图为                  ；
Al与NaOH溶液反应的离子方程式为                                         
(2)氮化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐，
其反应方程式为                                                
（3）工业上用化学气相沉积法制备氮化硅，其反应如下：
3SiCl₄(g) + x N₂(g) + 6 H₂(g)   Si₃N₄(s) + 12 HCl(g)   △H＜0  
在恒温、恒容时，分别将0.3mol SiCl₄(g)、0.2mol N₂(g)、0.6mol H₂(g)充入2 L密闭容器内，进行上述反应，5 min达到平衡状态，所得HCl(g)为0.3mol/L、 N₂为0.05 mol/L
① H₂的平均反应速率是                       
② 反应前与达到平衡时容器内的压强之比=           
③ 系数 x =     
(4)已知：TiO₂(s)＋2Cl₂(g)===TiCl₄(l)＋O₂(g)  ΔH₁＝＋140 kJ·mol^－1
C(s)＋O₂(g)=== CO(g)    ΔH₂ ＝－110 kJ·mol^－1
写出TiO₂和焦炭、氯气反应生成TiCl₄和CO气体的热化学方程式：
                                                                              。

科目 化学   题型 填空题   难度 困难

知识点： 探究影响化学反应速率的因素