除去下列物质中的少量杂质。所选用的试剂或操作方法错误的是
| 选项 |
物质 |
杂质 |
试剂 |
操作方法 |
| A |
H2O |
油污 |
适量洗涤剂 |
振荡、搅拌 |
| B |
空气 |
甲醛 |
过量活性炭 |
通过活性炭净化器 |
| C |
CO |
水蒸气 |
足量生石灰 |
通过生石灰的干燥管 |
| D |
NaNO3溶液 |
NaCl |
适量AgNO3溶液 |
过滤 |
下列归纳总结完全正确的一组是（ ）
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A．燃烧的条件 |
B．有机合成材料 |
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①可燃物 ②氧气（或空气） ③温度达到100℃ |
①合金 ②合成纤维 ③合成橡胶 |
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C．化学之最 |
D．元素与健康 |
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①汞﹣熔点最低的金属 ②碳﹣地壳中含量最多的元素 ③金刚石﹣天然存在的最硬物质 |
①缺氟﹣龋齿 ②缺钙﹣﹣佝偻病 ③缺碘﹣甲状腺肿大 |
A．AB．BC．CD．D
对一定量氯酸钾和二氧化锰的混合物加热，下列图象能正确表示对应变化关系的是（ ）
A．
B．
C．
D．
下列实验方法能够达到实验目的是（ ）
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实验目的 |
实验方法 |
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A |
除去氢气中混有的少量水蒸气 |
将混合气体通过足量浓硫酸 |
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B |
除去生石灰中混有的少量碳酸钙 |
加足量水，过滤 |
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C |
除去氮气中混有的少量氧气 |
将混合气体通过灼热的炭层 |
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D |
除去氯化钙溶液中混有的少量氯化钠 |
加入足量碳酸钠溶液，过滤 |
A．AB．BC．CD．D
硅是重要的半导体材料。X+H2 3HCl+Si（高纯）是工业制硅流程中的一个化学反应方程式，则X为（ ）
A．SiClB．SiCl3C．SiHCl3D．SiH2Cl3
如图是硫在空气和氧气中燃烧的实验。下列说法不正确的是（ ）
A．氧气含量越多硫燃烧越剧烈
B．硫在氧气中燃烧发出蓝紫色火焰
C．瓶底的水可以吸收生成的有害气体
D．硫在空气和氧气中燃烧的生成物不同