利用相关工程技术可以获得抗黑腐病杂种黑芥-花椰菜植株，已知野生黑芥具有黑腐病的抗性基因，而花椰菜易受黑腐病菌的危害而患黑腐病，技术人员用一定剂量的紫外线处理黑芥原生质体可使其染色体片段化，并丧失再生能力，再利用此原生质体作为部分遗传物质的供体与完整的花椰菜原生质体融合，流程如下图。
据图回答下列问题：
（1）该过程用到的工程技术有____________ 和____________。
（2）过程①所需的酶是____________ ,过程②PEG的作用是____________，经过②操作后，需筛选出融合的杂种细胞，显微镜下观察融合的活细胞中有供体的叶绿体存在可作为初步筛选杂种细胞的标志。
（3）原生质体培养液中需要加入适宜浓度的甘露醇以保持一定的渗透压，其作用是____________。原生质体经过细胞壁再生，进而分裂和脱分化形成____________。
（4）若分析再生植株的染色体变异类型，应剪取再生植株和双亲植株的根尖，制成装片，然后在显微镜下观察比较染色体的____________；对杂种植株进行____________接种实验，可筛选出具有高抗性的杂种植株。
(7分）下图1表示一个绿色植物的叶肉细胞中光合作用与呼吸作用的模式图，a～e表示相关物质，据图回答下列问题：
（1）进行光合作用光反应、有氧呼吸第二阶段的场所分别是、。
（2）图中的a、e分别代表物质是、。
（3）将一株植物放置于密闭的容器中，用红外测量仪进行测量，测量时间均为1小时，测定的条件和结果如图2所示(数据均在标准状况下测得)：
由图2分析可知，影响A点和B点光合速率的因素是。在15℃、lklx光照条件下，该植物5小时光合作用共吸收CO2mL。A、B两点的实际光合作用强度大小关系是：A B。
(8分) 下图一为某细胞模式图的一部分，图二a～h为细胞器或细胞的某一结构。图二中各结构放大比例不同。请据图回答有关问题（括号中填序号或字母，横线上填文字）：
（1）a～h中控制物质进出的细胞结构是（填字母）。
（2）a～h中具有单层膜的细胞器是（填字母）。
（3）若图一细胞是动物乳腺细胞，与其他没有分泌功能的细胞相比较，a～h中数目一定较多的细胞器是[ ]。c结构上可合成物质。
（4）如果图一细胞具有明显的b结构，则该细胞是否会出现g的现象，原因是。
（5）若图一细胞位于蝗虫的精巢中，则该细胞可能会发生类似于图二中（填字母），所示的分裂现象，其中DNA数和染色体数之比为2∶1的是（填字母）。
(11分)下列是有关二倍体生物的细胞分裂信息，请据图分析回答下列问题。
（1）图1中A1B1段形成的原因是。基因突变发生在图1中的哪一段？。
（2）图5细胞对应于图2中的段(填字母)。D2E2染色体的行为变化，与图1中的段变化相同。
（3）雄性激素能促进图3～图5中的哪一个细胞的形成。图5子细胞的名称为。图3～图5中的哪一个细胞正在发生基因的分离与自由组合？。
（4） 图3细胞中有对同源染色体，个染色体组，①和⑤在前一时期是。
（5）若图1纵坐标是细胞周期中细胞核内的DNA数，则图3～图5中哪个细胞的DNA含量与图1中D1E1段的相等？。
(7分） 图1为细胞周期的模式图，图2为动物细胞的亚显微结构模式图。请据图回答(方框内填图中的数字，横线上填文字)：
（1）图1中，X期代表；诊断因染色体数目变异导致的遗传病时，需选择[ ] 期的细胞，原因是。4期末消失的细胞结构有。
（2）组蛋白是组成染色体的蛋白质。图2中，组蛋白基因表达时，能发生碱基配对的场所是[ ]和[ ]。
（3）图2中，具有选择透过性膜的结构有。
A [5] B [6] C [7] D [8] E [9] F [10]
（每空1分，共9分）为研究不同光照强度下水稻的光合作用，某实验室人员将水稻幼苗固定于无底反应瓶中进行实验，实验装置如下图一所示。
实验原理：该装置中水稻苗光合作用产生的气体，可使浮力增大，使天平指针发生偏转。实验步骤：①调节天平平衡；②用100W的灯泡作为光源，先将灯泡置于距装置20厘米处，15分钟后观察并记录指针偏转方向和格数，③加大灯泡与装置间距离，过15分钟再观察记录；④连续重复步骤③。实验结果如上图二所示，请回答下列问题：
（1）该实验的自变量是_____________，通过______________________________进行调控。
（2）请据实验结果分析回答：①B点与A点比较，光合作用强度较大的是点，指针偏转的方向是向②C点表示的是_____________________________________________。③CD段形成的原因是_________________________________________，与C点相比较，D点指针向____________偏转。④若此曲线与横轴相交于E点，则E点的含义是。
（3）若用此装置测定水稻幼苗的呼吸强度，需要对此装置进行____________处理。