高纯度晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场 “革命”。它可以按下列方法制备：
下列说法正确的是
A．步骤①的化学方程式为：SiO2＋C Si＋CO2↑ |
| B．步骤①②③中每生成或反应1mol Si，转移4mol电子 |
| C．二氧化硅能与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应 |
| D．SiHCl3（沸点33．0℃）中含有少量的SiCl4（沸点67．6℃），通过蒸馏（或分馏）可提纯SiHCl3 |
下列反应中，水作为氧化剂的是
A．CO + H2O  CO2 + H2 |
| B．3NO2 + H2O ＝ 2HNO3 + NO |
| C．Cl2+ H2O ＝HCl + HClO |
| D．2F2 + 2H2O ＝4HF + O2 |
当溶液中有大量的H+和Ba2+时，下列离子中有可能大量存在的是
A．SO |
B．CO |
C．Cl- | D．OH- |
下列反应中，离子方程式正确的是
A．铁跟稀硫酸反应：2Fe＋6H＋ 2Fe3＋＋3H2↑ |
| B．碳酸钙跟盐酸反应： CO32—＋2H＋ H2O＋CO2↑ |
| C．稀硫酸跟氢氧化钾溶液反应：H＋＋OH－H2O |
| D．氢氧化钡溶液跟稀硫酸反应：Ba2+ + SO42－ BaSO4↓ |
用NA表示阿伏德罗常数，下列叙述正确的是
| A．常温常压下，1．06g Na2CO3含有的Na+离子数为0．02NA |
| B．标准状况下，22．4LH2O含有的分子数为NA |
| C．通常状况下，NA个CO2分子占有的体积为22．4L |
| D．物质的量浓度为0．5mol/L的MgCl2溶液中，含有Cl-个数为NA |
下列反应既是离子反应又是氧化还原反应的是
| A．BaCl2溶液滴入稀硫酸中 |
| B．盐酸滴在生石灰上 |
| C．铁粉撒入CuSO4溶液中 |
| D．向炽热氧化铁通入CO |