工业上用的铝上矿(主要成分是氧化铝．含氧化铁杂质)为原料冶炼铝的工艺流程如下：
下列叙述正确的是
| A．反应①中试剂X是氢氧化钠溶液 |
| B．试剂Y是HCI，它与AlO2－反应生成氢氧化铝 |
| C．图中所示转化反应中包含2个氧化还原反应 |
| D．将X与Y试剂进行对换，最终可以达到相同结果 |
已知25℃时，Ka(HF)＝3.6×10-4，Ksp(CaF2)＝1.46×10-10。现向1L0.2mol·L-1HF溶液中加入1L0.2mol·L-1CaCl2溶液，则下列说法中，正确的是
| A．25℃时，0.lmol·L-1溶液中pH＝l |
| B．Ksp(CaF2)随温度和浓度的变化而变化 |
| C．该体系中没有沉淀产生 |
| D．该体系中HF与CaC12反应产生沉淀 |
已知反应2CH3OH(g)
CH3OCH3(g)+H2O(g)。某温度下的平衡常数为400。此温度下，在体积恒定的密闭容器中加入一定量的CH3OH，反应到某时刻测得各组分的浓度如下：
| 物质 |
CH3OH |
CH3OCH3 |
H2O |
| 浓度/mol·L-1 |
0.44 |
0.6 |
0.6 |
下列叙述中正确的是
A．该反应的平衡常数表达式为K＝[c(CH3OCH3)×c(H2O)]/c(CH3OH)
B．此时正、逆反应速率的大小：υ正＜υ逆
C．若经10min后反应达到平衡，此时c(CH3OH)＝0.04mol/( L·min)
D．0～10min内平均反应速率υ(CH3OH)＝1.6mol/(L·min)
可逆反应aA(g)+bB(g)
cC(g)+dD(s)；△H＝QkJ·mol-1，反应过程中，当其他条件不变时，某物质在混合物中的含量与温度（T）、反应速率（v）与压强的关系如图所示。据图分析，以下说法正确的是
| A．T1＜T2，Q＞0 |
| B．增大压强，B的转化率减小 |
| C．当反应达平衡时，混合气体的密度不再变化 |
| D．a+b＞c+d |
半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅
SiO2(s)+2C(s)＝Si(s)+2CO(g)△H1＝+682.44kJ·mol-1
(石英砂） (粗硅）
Si(s)+2C12(g)＝SiCl4(l)△H2＝一657.01kJ·mol-1
(粗硅）
SiCl4(l)+2Mg(s)＝2MgCl2(s)+Si(s) △H3＝一625.63kJ·mol-1
（纯硅）
若生产1.00kg纯硅放出的热量为
| A．21.44kJ | B．600.20kJ | C．21435.71kJ | D．1965.10kJ |
向含有Fe2+、I-、Br-的溶液中通入适量氯气，溶液中各种离子的物质的量变化如下图所示。有关说法不正确的是
| A．线段BC代表Fe3+物质的量的变化情况 |
| B．原混合溶液中c(FeBr2)＝6mol/L |
| C．当通入Cl22mol时，溶液中已发生的离子反应可表示为： 2Fe2++2I-+2C12＝2Fe3++I2+4Cl- |
| D．原溶液中n(Fe2+):n(I-):n(Br-)＝2:1:3 |