三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有关说法正确的是
| A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 |
| B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1 |
| C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子 |
| D．氧化产物和还原产物的物质的量之比为1∶2 |
下列各组物质熔点高低的比较,正确的是( )
| A．Al>Mg>Na | B．MgO>KCl>NaCl |
| C．晶体硅>金刚石>碳化硅 | D．Cl2>Br2> I2 |
下列电子排布式表示基态原子的电子排布的是 ()
| A．1s12s1 | B．1s22s12p1 |
| C．1s22s22p63s2 | D．1s22s22p63p1 |
已知在一定条件下能发生下列反应：N2＋3Mg ＝ Mg3N2（固），空气缓缓通过下图装置时，依次除去的气体是（）
| A．CO2、N2、H2O、O2 | B．CO2、H2O、O2、N2 |
| C．H2O、CO2、N2、O2 | D．N2、O2、CO2、H2O |
下列溶液氯离子的物质的量浓度与50mL 1mol·L-1氯化铝溶液中氯离子的物质的量浓度相等的是（）
| A．150 mL 1 mol·L-1氯化钠溶液 | B．75 mL 1.5 mol·L-1氯化钙溶液 |
| C．150 mL 3 mol·L-1氯化钾溶液 | D．50 mL 3 mol·L-1氯化镁溶液 |
已知1.505×1023个X气体分子的质量为8g，则X气体的摩尔质量是（）
| A．16g | B．32g | C．64g·mol -1 | D．32g·mol -1 |