下列各组离子能在指定环境中大量共存的是
| A．在c(HCO3－)＝0．1 mol·L－1的溶液中：NH4＋、Al3＋、Cl－、NO3－ |
| B．在由水电离出的c(H＋)＝1×10－12mol·L－1的溶液中：Fe2＋、ClO－、Na＋、SO42－ |
| C．在加入镁粉产生气体的溶液中：SO42－、NO3－、Na＋、Fe2＋ |
| D．在使红色石蕊试纸变蓝的溶液中：SO32－、CO32－、Na＋、K＋ |
氯气（Cl2）和氧气（O2）都是活泼的非金属单质，在一定条件下它们都能跟甲烷（CH4）反应。已知O2和CH4充分反应后的生成物是CO2和H2O，由此推断Cl2和CH4充分反应后的生成物是
| A．CCl4和HCl | B．CCl4和H2 | C．CH2C12和H2 | D．C和HCl |
含MgCl2、FeCl3、Al2(SO4)3三种溶质的混合溶液中，已知Cl－为1.5mol，Al3＋和Fe3＋共0.5mol，Mg2+为0.5mol，则SO42—的物质的量为
| A．1mol | B．0.5mol | C．0.25mol | D．0.15mol |
单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为 ： ①SiO2＋ 2 C 
Si ＋ 2 CO
②Si ＋ 2Cl2SiCl4 ③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl，其中反应①和③都属于
| A．分解反应 | B．化合反应 |
| C．置换反应 | D．复分解反应 |
下列过程应用于工业生产的是
| A．钠在氯气中燃烧制氯化钠 | B．氢气与氯气光照条件下制氯化氢气体 |
| C．浓盐酸与二氧化锰共热制氯气 | D．氯气与石灰乳反应制漂白粉 |
用NA表示阿伏加德罗常数的值，下列说法正确的是
| A．22.4L氢气中含有氢分子数目为NA |
| B．1 mol 臭氧（O3）中含有氧原子的数目为2NA |
| C．常温常压下，14 g氮气含有的原子数目为 NA |
| D．0.5 mol/LFe2(SO4)3 溶液中，SO42－的数目为1.5NA |