工业生产粗硅的主要原理为：SiO2+2C 3273K Si(粗)+2CO↑。
（1）若在制粗硅的过程中同时生成了碳化硅，且生成的硅和碳化硅的物质的量之比为5∶1，则参加反应的C和SiO2的质量比为 。
（2）工业上可通过如下流程由粗硅制取纯硅：
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Si(粗) SiCl4(l) Si(纯)
①配平：□KMnO4+□HCl→□KCl+□MnCl2+□Cl2+□□；
②0.2mol／LNaHSO4溶液中H+浓度为0.2mol／L，该溶液与0.1mol／LBa（OH）2溶液等体积反应时的离子方程式为 。
一定温度压强下，a L氧气含有b个原子，此时c L氧气的质量是 g
现有K2SO4和H2SO4的混合溶液100mL。其中K2SO4物质的量浓度为1mol/L，H2SO4的物质的量浓度为0.5mol/L。现要求将上述混合溶液中K2SO4的浓度变为0.2mol/L，H2SO4的浓度变为2mol/L，应加入98％（密度1.84g/mL）的硫酸 毫升（保留两位小数），然后再加水稀释到 毫升?
已知: MnO2 +4HCl（浓）
MnCl2 + Cl2↑+ 2H2O。一定质量的二氧化锰溶解在100ml过量的浓盐酸中，当反应生成3.36L Cl2气体时（标况），剩余溶液中盐酸的浓度为4mol/L（假设反应前后体积不变）。请回答下列问题：
（1）该反应的氧化剂为 ；氧化产物为 （化学式填写）。
（2）反应耗用MnO2的质量为 ；
（3）被氧化的HCl物质的量为 ；
（4）原浓盐酸的物质的量浓度为 。
对某些化学反应，由于反应物用量不同，产物也会有所不同，试根据溶液中离子反应的初步知识，完成下列情况下的离子方程式。
（1）向NaHSO4溶液中逐滴加入Ba(OH)2溶液至中性，写出发生反应的离子反应方程式 ；
（2）在以上中性溶液中，继续滴加Ba(OH)2溶液，写出发生反应的离子方程式 ；
（3）向Ba(OH)2溶液中逐滴加入NaHSO4至恰好完全沉淀，写出反应的离子方程式 ；
（4）在（3）的溶液中，继续滴加NaHSO4溶液，写出发生反应的离子方程式 。