向盛有KI溶液的试管中滴加氯水后再加入少许CCl4，充分振荡后CCl4层呈紫色。如果继续向试管中滴加氯水，充分振荡，CCl4层又会逐渐变浅，最后变成无色。根据以上信息完成下列填空：
(1)写出并配平CCl4层由紫色变成无色的化学反应方程式，并用双线桥法标出电子转移的方向和数目：
(2)实验中的有机溶剂CCl4还可以用 代替。
| A．苯 | B．煤油 | C．酒精 | D．醋酸 |
(3)若把KI换成KBr，则CCl4层变为 色；继续滴加氯水，CCl4层的颜色没有变化。则Cl2、HIO3、HBrO3氧化性由强到弱的顺序是 。
(4)加碘盐中含碘量为20mg～50mg/kg。制取加碘盐(含KIO3的食盐)1000kg，若用KI与Cl2反应制KIO3，至少需要消耗Cl2________L(标准状况，计算结果保留1位小数)。
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
（1）在制粗硅的反应中，焦炭的作用是。
（2）整个制备过程必须严格控制无水、无氧。
①SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ；②H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是。
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出
实验现象并给予解释 。
将羧酸的碱金属盐电解可得到烃类化合物。例如：
2CH3COOK＋2H2O
CH3－CH3＋2CO2↑＋H2↑＋2KOH
请根据下列表示的衍变关系，回答问题。
（1）写出下列物质的结构简式A： E： I
（2）G能发生反应的类型有（填序号）：
a.取代 b.加成 c.还原 d.氧化 e.消去 f.水解
（3）写出H的最简单的两种同系物的结构简式，。
（4）F与J的关系为（填序号） a.同一物质 b.同系物 c.同分异构体 d.同素异形体
（5）写出下列过程的化学方程式：
Ｃ→Ｄ： Ｃ＋Ｅ→Ｆ：
10分）A、B、C、D、E是位于短周期的主族元素，其中A、B为金属元素。已知：①热稳定性：HmD＞HmC；②Cm－、E（m－1）-具有相同的电子层结构；③B与E在同一周期，在该周期中，E的原子半径最小，B的离子半径最小；④A、B所形成的单核离子具有相同的电子层结构，B的最高价氧化物对应的水化物与A、E的最高价氧化物对应的水化物都能反应。依据上述信息回答下列问题：（1）HmD的电子式：___________________。
（2）Cm－、E（m－1）-的还原性强弱为___________＞___________（填离子符号），能证明其
还原性强弱的离子方程式为。
（3）写出B的最高价氧化物对应的水化物和A的最高价氧化物对应的水化物反应的离子方程式_________________________________________________________。
（4）在B、C、E单质中，符合下列转化关系的是___________。（填元素符号）
有下列转化关系：
（1）若C是可用于自来水消毒的气体，A生成的B的反应为工业上冶炼金属B的反应，反应条件为电解，D、E是氧化物，D转化为E时增加氧的质量是总质量的25.8％，则写出A在一定条件下生成的C方程式， E的电子式为
（2）若E是酸酐，且为无色易挥发的晶体，A为气态氢化物，则A与D反应生成B的化学方程式为 。
填空：
（1）在测定硫酸铜结晶水含量实验过程中，称量操作至少进行次。当加热到
时，停止加热，并将坩埚放在中冷却。当时则可认为结晶水已经完全失去。实际操作中，有些操作会使实验结果偏高或偏低。下列操作会使测定结果偏高的是（填字母）
| A．加热温度过高而使硫酸铜部分分解 | B．坩埚用水洗后没有烘干 |
| C．加热后放在空气中冷却 | D．粉末未完全变白就停止加热 |
（2）同素异形体相互转化的反应热相当小而且转化速度较慢，有时还很不完全，测定反应热很困难。现在可根据盖斯提出的观点“不管化学过程是一步完成或分几步完成，这个总过程的热效应是相同的”来研究。已知： P4(s、白磷)＋5O2(g)＝P4O10(s)；△H＝－2983.2kJ·mol－1
P(s、红磷)＋5/4O2(g)＝1/4P4O10(s)；△H＝－738.5kJ·mol－1
由此可知白磷的稳定性比红磷＿＿＿＿＿。(填写“强”或“弱”)