MnSO4·H2O在工业、农业等方面有广泛的应用。
(一)制备:工业上用化工厂尾气中低浓度SO2还原MnO2矿制备MnSO4·H2O过程如下:
已知:常温时部分硫化物难溶盐的Ksp:CuS--6.3×10-36、PbS--1.0×10-28、NiS--2.0×10-26、
MnS--2.5×10-10,请回答下列问题:
(1)生产中MnO2矿粉碎的目的是 ▲ 。
(2)除铁发生的离子反应方程式为 ▲ 。
(3)除重金属离子后,若混合溶液中Cu2+、Pb2+、Ni2+的浓度均为1.0×10-5mol/L,则c(S2-)最大= ▲ mol/L。
(二):性质—热稳定性:MnSO4·H2O在1150℃高温下分解的产物是Mn3O4、含硫化合物、水,在该条件下硫酸锰晶体分解反应的化学方程式是 ▲
(三)废水处理:工厂废水中主要污染为Mn2+和Cr6+,现研究铁屑用量和pH值对废水中铬、锰去除率的影响,(1)取100mL废水于250 mL三角瓶中,调节pH值到规定值,分别加入不同量的废铁屑.得到铁屑用量对铬和锰去除率的影响如下图1所示。则在pH一定时,废水中铁屑用量为 ▲ 时锰、铬去除率最好
(2)取100mL废水于250 mL三角瓶中,加入规定量的铁粉,调成不同的pH值。得到pH值对铬和锰去除率的影响如下图2所示。则在铁屑用量一定时,废水pH= ▲ 时锰、铬去除率最好
(6分)已知碳有两种常见的同位素126C、136C;氧有三种常见的同位素168O、178O、188O。
(1)由这五种微粒构成的CO的分子有种。
(2)本题中涉及种核素,种元素。
(3)一个相对分子质量最大的二氧化碳分子中有个电子,个中子;0.5 mol这种二氧化碳的质量是g。
(6分)单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计,到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体
管,其功能远比我们想象的要大的多,这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为:①SiO2 + 2C
Si + 2CO②Si + 2Cl2
SiCl4
③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl。回答下列问题:
(1)上述反应中,属于氧化还原反应的是(填序号)。
(2)反应①和③属于。
A.化合反应 B.分解反应 C.置换反应 D.复分解反应
(3)下列描述正确的是。
A.氧化还原反应都是置换反应
B.判断一个反应是否为氧化还原反应的依据是是否有化合价的升降
C.化合反应全部都是氧化还原反应 D.复分解反应全部都是氧化还原反应
(8分)(1)从30mL0.5mol·L-1 NaOH溶液中取出10 mL:这10 mL溶液的物质的量浓度是mol·L-1,其中的溶质质量是g。
(2)将30mL0.5mol·L-1 NaOH溶液加水稀释到500mL,稀释后溶液中NaOH的物质的量浓度是mol·L-1。
(3)现有体积相同的NaCl、MgCl2、AlCl3三种溶液,分别加入足量的硝酸银溶液,Cl-沉淀完全时,消耗等物质的量的AgNO3,则三种溶液的物质的量浓度之比为。
(4分)下列物质:①H2SO4②NaOH ③NaCl ④CO2 ⑤Cu ⑥蔗糖 ⑦H2CO3⑧盐酸属于电解质的是;属于非电解质的是。(填序号)
请利用下列装置及试剂组装一套装置。
其流程是,先制取纯净干燥的Cl2(不收集),后试验干燥的Cl2和潮湿的Cl2有无漂白性。
(1)按气体从左向右流向将各装置依次连接起来(填字母序号):
a接____ _____ 接 ___________接_____________接______ _______ 接h 。
(2)烧瓶
中发生反应的化学方程式是。
(3)E装置的作用是,F装置的作用是。
(4)C瓶中的现象是,B瓶中的现象是。以上事实说明起漂白作用的物质是。