氮化硅（Si3N4）是一种优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途．
I.工业上有多种方法来制备氮化硅，常见的方法有：
方法一 直接氮化法：在1300℃-1400℃时，高纯粉状硅与纯氮气化合，其反应方程式为 .
方法二 化学气相沉积法：在高温条件下利
用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl，与方法一相比，用此法制得的氮化硅纯度较高，其原因是 .
方法三 Si(NH2)4热分解法：先用四氯化硅与氨气反应生成Si(NH2)4和一种气体（填分子式） ；然后使Si(NH2)4受热分解，分解后的另一种产物的分子式为 ．
II.工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下：
已知：X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应，Y与X在光照或点燃条件下可反应，Z的焰色呈黄色．
（1）写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式： ．
（2）上述生产
流程中电解A的水溶液的化学方程式： ．
根据要求回答下列问题：
①CaBr2②H2O③NH4Cl④H2O2⑤Na2O2⑥Ca(OH)2⑦HClO
⑧I2⑨He⑩ Al____
（1）只含有离子键的是（用序号回答）_____
(2) 含有共价键的离子化合物是（用序号回答）_________
（3）含有共价键的共价化合物是（用序号回答）______________
（4）常温时为固体，当其熔化时，不破坏化学键的是（用序号回答）_______________
（5）熔融状态时和固态时，都能导电的有（用序号回答）____________
在11到18号元素中，除稀有气体元素外（填符号或化学式）
①原子半径最小的元素是，原子半径最大的元素是；
②非金属性最强的元素是，金属性最强的元素是；
③最高价氧化物对应水化物碱性最强的是，它对应的氧化物的化学式；
④最高价氧化物对应水化物酸性最强的是，它对应的氢化物的化学式；
⑤气态氢化物中最稳定的是，最不稳定的是；
⑥氧化物中呈两性的是，③中氧化物和④中氢化物反应的化学方程式。
如图所示，当关闭阀门K时，向甲中充入1.5 mol A、3.5 mol B，向乙中充入3 mol A、7 mol B，起始时，甲、乙体积均为V L。在相同温度和有催化剂存在的条件下，两容器中各自发生下列反应：3A(g)+ 2B(g)
C(g)
＋2D(g)；ΔH<0达到平衡（Ⅰ）时，V(乙)="0.86V" L。请回答：
（1）乙中B的转化率为；
（2）甲中D和乙中C的物质的量比较：（填“相等”、“前者大”、“后者大”）；
（3）打开K，过一段时间重新达平衡（Ⅱ）时，乙的体积为（用含V的代数式表示，连通管中气体体积忽略不计）。
有下列四种溶液（均无气体逸出）
| A．0.01mol/L的H2CO3溶液 |
| B．0.01mol/L的NaHCO3溶液 |
| C．0.02mol/L的HCl与0.04mol/L的NaHCO3溶液等体积混合液 |
| D．0.02mol/L的NaOH与0.02 mol/L的NaHCO3溶液等体积混合液 |
据此，填写下列空白（填代号）
(1) c(H+) 最大的是______________；(2) c(H2CO3) 最大的是______________；
(3) c(HCO3－) 最大的是____________；(4) c(CO32－) 最大的是_____________；
(5) c(HCO3－) 最小的是____________。
如图所示，甲、乙、丙是三种常见单质，X、Y、Z是常见化合物，它们之间有如下转化关系：
⑴若甲是短周期金属单质，乙、丙是短周期非金属单质，X、Y、Z中只有一种是离子晶体，
试推断：
①X的电子式是______________________________。
②X与甲反应的化学方程式____________________________________。
⑵若甲是气体单质，丙通常是液体，Y和Z具有相同的阳离子，X与Z含有相同的阴离子，试推断：
①写出Z的化学式_______________________。
②写出X与足量的甲在溶液中完全反应的离子方程式：_________________________ 。