某学生应用下图所示的装置来研究物质的性质，其中气体X的主要成分是氯气，杂质是空气和水蒸气。
回答下列问题：
(1)该项研究(实验)的主要目的是 。
(2)浓H2SO4的作用是 ，
与研究目的直接相关的实验现象是______________________________________。
(3)该实验装置设计上存在的缺陷为 _________________ ，
请在上图的D处画出能克服该缺陷的装置。
下表是某兴趣小组通过实验获得的相同体积足量稀硫酸与铁反应的实验数据：
| 实验序号 |
金属质量/g |
金属状态 |
c(H2SO4) mol/L |
实验温度/℃ |
金属消失的时间/s |
|
| 1 |
0.10 |
丝 |
0.7 |
20 |
250 |
|
| 2 |
0.10 |
丝 |
1.0 |
20 |
200 |
|
| 3 |
0.10 |
粉末 |
1.0 |
20 |
125 |
|
| 4 |
0.10 |
粉末 |
1.0 |
30 |
50 |
分析上述数据，回答下列问题：
（1）反应的离子方程式：。
（2）①实验1、2可得出的结论是；
②实验2、3可得出的结论是；
③实验3、4可得出的结论是。
.(12分)某铝合金（硬铝）中含有镁、铜、硅，为了测定该合金中铝的含量，某同学设计如下试验：
(1)取样品 ag ，称取时使用的仪器名称为。
(2)将样品溶于足量的稀盐酸中，过滤，滤渣中含有，在溶解过滤时使用的玻璃仪
器有。
(3)往滤液中加入过量的NaOH溶液、过滤，写出该步操作中有关的离子方程式。
(4)在第( 3 )步的滤液中通入足量CO2，过滤。有关反应的离子方程式是。
(5)步骤（4）过滤后的滤渣用蒸馏水洗涤数次后，烘干并灼烧至质量不再减轻为止，冷却后称量，质量为bg，则原样品中铝的质量分数是。
(6)若步骤（3）中加入氢氧化钠的量不足，则实验结果偏（填“高”、“低”或“不影响”，下同）；若步骤（5）中滤渣没有洗涤，则实验结果偏；若滤渣燃烧不充分，则实验结果偏。
(5分)晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3：Si + 3HCl（g）
SiHCl3 + H2（g）
③SiHCl3与过量H2在1000-1100℃反应制得纯硅：
SiHCl3（g）+ H2（g）
Si（s）+ 3HCl（g）
已知SiHCl3能与H2O剧烈反应，且在空气中易自燃。
用SiHCI3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）
(1)装置B中的试剂是
(2)反应一段时间后，装置D中观察到的现象是，装置D不能采用普通玻璃管的原因是。
(3)为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及。
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是。（填写字母代号）
a．碘水 b.氯水 c. NaOH溶液 d. KSCN溶液 e. Na2SO3溶液
某烧碱溶液中含有少量杂质（不与盐酸反应），现用中和滴定测定其浓度。
（1）滴定
①用______式滴定管盛装0.1000 mol/L盐酸标准液，锥形瓶中装有25.00mL待测烧碱溶液。上图表示某次滴定时50 mL滴定管中前后液面的位置。请将用去的标准盐酸的体积填入②表空格中。
②有关数据记录如下：
| 滴定序号 |
待测液体积(mL) |
所消耗盐酸标准液的体积(mL) |
||
| 滴定前 |
滴定后 |
消耗的体积 |
||
| 1 |
25.00 |
0.50 |
25.95 |
25.45 |
| 2 |
25.00 |
|||
| 3 |
25.00 |
6.00 |
31.55 |
25.55 |
（2）根据所给数据，计算出烧碱样品的物质的量浓度（注意保留合适的有效数字）。
c(NaOH) = _____________。
（3）读数时，若滴定前仰视，滴定后俯视，则会使最终测定结果_________。(填“无影响”、“偏高”、“偏低”)
两套如图所示装置，各盛有2g锌粒（颗粒大小相同）分别加入40ml 1mol/L和40ml 4mol/L的硫酸，比较二者收集10ml H2时所用的时间。
（1）当收集到10mL H2时，哪个实验所耗时间较长？为什么？
_________________________________________________________________________________
（2）活塞外移的情况是_______________。
| A．均匀外移 | B．先快后慢 | C．先慢后快 | D．先慢后快然后又逐渐减慢 |
你选择的理由是___________________________________________________________。