三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O=2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )
| A．NF3分子中所有原子共平面 | B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
| C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 | D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |
以苯为原料，不能通过一步反应而制得的有机物是（ ）
某气态的烷烃与烯烃的混合气体9 g，其密度为同状况下H2密度的11.2倍，将混合气体通过足量的溴水，溴水增重4.2 g,则原混合气体的组成为（ ）
| A．甲烷，乙烯 | B．甲烷，丙烯 | C．乙烷，乙烯 | D．甲烷，丁烯 |
CH4中混有CH2=CH2, 欲除去CH2=CH2得到CH4, 最好依次通过哪一组试剂( )
| A．澄清石灰水、浓硫酸 | B．KMnO4酸性溶液、浓硫酸 |
| C．溴水、浓硫酸 | D．浓硫酸、KMnO4酸性溶液 |
下列各组中的性质比较，正确的是（）
①酸性：HClO4>HBrO4>HIO4②碱性：KOH>Ca(OH)2>Mg(OH)2
③稳定性：HCl>H2S>PH3④还原性：F-->Cl-->Br--
| A．①②④ | B．②③④ | C．①②③ | D．都正确 |
下列表达方式中错误的是( )
A．次氯酸电子式:  |
B．S2-的结构示意图： |
C．O—18的原子符号： |
D．CO2分子的结构式：O=C=O |