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题文

在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,废液处理和资源回收的过程简述如下:
Ⅰ.向废液中投入过量铁屑,充分反应后分离出固体和滤液;
Ⅱ.向滤液中加入一定量石灰水,调节溶液pH,同时鼓入足量的空气。
已知:Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10-38
回答下列问题:
(1)FeCl3蚀刻铜箔反应的离子方程式为______________________________;
(2)过程Ⅰ加入铁屑的主要作用是________,分离得到固体的主要成分是______________,从固体中分离出铜需采用的方法是________________;
(3)过程Ⅱ中发生反应的化学方程式为______________;
(4)过程Ⅱ中调节溶液的pH为5,金属离子浓度为________。(列式计算)

科目 化学   题型 填空题   难度 中等
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cm(I)(mol/L)m
cn(Fe3)[(mol/L)n]
v[mol/(L·s)]
a
0.20
0.80
0.032
b
0.60
0.40
0.144
c
0.80
0.20
0.128

I浓度对反应速率的影响________Fe3浓度对反应速率的影响(填大于或小于或等于)

已知下列反应的平衡常数:
(1)HCNH+ + CN,K1Θ =" 4.9" ×1010
(2)NH3 + H2O NH4+ + OH,K2Θ =" 1.8" ×105
(3)H2OH+ + OH,KwΘ =" 1.0" ×1014算出NH3 + HCN NH4+ + CN,反应平衡常数的K值是_________________

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