硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式____________________；H2还原SiHCl3过程中若混有O2，可能引起的后果是____________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是 ( )。
A．单质硅化学性质稳定，但可以被强碱溶液腐蚀
B．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
D．光导纤维的主要成分是SiO2
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入盐酸，振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)_________________________ ____。
(4)在人体器官受到损伤时，需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内，这种材料是________(填字母)。
A．高温结构陶瓷 B．生物陶瓷 C．导电陶瓷
现有X、Y、Z三种元素，已知有如下情况：
①X、Y、Z的单质在常温下均为气体。
② X的单质在Z的单质中燃烧，生成XZ，燃烧时火焰呈苍白色。
③ XZ极易溶于水，在水溶液中电离出X＋和Z－。XZ的水溶液可使石蕊试液变红。
④两分子X的单质可与一分子Y的单质化合生成两分子X2Y，X2Y常温下为液体。
⑤ Z的单质溶于X2Y中，所得溶液具有漂白作用。
请完成下列问题：
（1）写出XZ和X2Y的化学式：XZ X2Y
（2）Z的单质溶于X2Y后，溶液起漂白作用的物质是 （写化学式）。
（3）写出X的单质在Z的单质中燃烧的化学方程式 。
（4）Z的单质能否与氢氧化钠溶液发生反应： （填“能”或“否”），若能，请写出反应的化学方程式： 。
（若不能反应，则此空不必填写）。
根据反应（1）2P+5Br2+8H2O＝2H3PO4+10HBr
（2）Cl2+2HBr＝2HCl+Br2
（3）2KMn04+16HCl(浓)＝2KCl+2MnCl2+5Cl2↑+8H2O
推断氧化性(氧化剂)由强到弱的顺序是。
还原性(还原剂)由强到弱的顺序是。
洪灾过后，饮用水的消毒杀菌成为抑制大规模传染性疾病爆发的有效方法之一。漂白粉是常用的消毒剂。
（1）工业上将氯气通入石灰乳[Ca(OH)2]制取漂白粉，化学反应方程式为
。
（2）漂白粉的有效成分是（填化学式）。
（3）漂白粉溶于水后，受空气中的CO2作用，即产生有漂白、杀菌作用的次氯酸，化学反应方程式为。
（4）反应（1）和反应（3）中，属于氧化还原反应的是（填编号）。
下列物质：①水②醋酸③盐酸④烧碱⑤硝酸钾⑥酒精⑦汽油⑧蔗糖
（用编号回答）其中属于弱电解质的有；属于强电解质的有；强电解质在水中电离。
试判断下面每组反应能否用同一个离子方程式表示，若能，写出相应的离子方程式；若不能，简要说明理由。
（1）CaCO3、Na2CO3分别跟盐酸反应________________________________。
（2）CuO分别跟稀硫酸、稀盐酸反应________________________________。
（3）H2SO4、K2SO4溶液分别跟Ba(OH)2反应________________________________。