工业上粗硅的生产原理为2C＋SiO2
Si＋2CO↑，下列说法正确的是
| A．SiO2是氧化剂 | B．SiO2发生氧化反应 |
| C．C表现出氧化性 | D．C被还原 |
下列有机化合物中均含有酸性杂质，除去这些杂质的方法中正确的是（）
| A．乙酸丁酯中含乙酸杂质：加入饱和碳酸钠溶液洗涤，分液 |
| B．乙醇中含乙酸杂质：加入碳酸钠溶液洗涤，分液 |
| C．乙醛中含乙酸杂质：加入氢氧化钠溶液洗涤，分液 |
| D．苯中含苯酚杂质：加入溴水， |
向10mL 0.1mol·
溶液中，滴加等浓度
溶液x mL，下列叙述正确的是（）
A．x=10时，溶液中有 、 、 ，且 |
B．x=10时，溶液中有、 、，且 |
C．x=30时，溶液中有 、、 ，且 |
D．x=30时，溶液中有、、，且 |
在T℃时，将a g NH3完全溶于水，得到V mL溶液，假设该溶液的密度为ρ g·cm－3，溶质的质量分数为w，其中含NH4+的物质的量为b mol。下列叙述中正确的是( )
A．溶质的质量分数为w＝ ×100% |
| B．溶质的物质的量浓度c＝ mol·L－1 |
C．溶液中c(OH－)＝ mol·L－1 |
| D．上述溶液中再加入V mL水后，所得溶液溶质的质量分数大于0.5w |
用滴定法测定Na2CO3(含NaCl杂质)的质量分数，下列操作会引起测定值偏高的是（）
| A．试样中加入酚酞作指示剂，用标准酸液进行滴定 |
| B．滴定管用蒸馏水洗涤后，直接注入标准酸液进行滴定 |
| C．锥形瓶用蒸馏水洗涤后，直接加入待测溶液进行滴定 |
| D．滴定管用蒸馏水洗涤后，直接注入待测液，取20.00 mL进行滴定 |
用下列实验装置进行相应实验，能达到实验目的的是（）
图2图3图4图5
| A．用图2 所示装置除去Cl2中含有的少量HCl |
| B．用图5 所示装置分离，CCl4萃取碘水后已分层的有机层和水层 |
| C．用图4 所示装置制取少量纯净的CO2气体 |
| D．用图3 所示装置蒸干NH4Cl饱和溶液制备NH4Cl晶体 |