[化学——选修3：物质结构与性质]
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为____ ，该能层具有的原子轨道数为____ 、电子数为 。
（2）硅主要以硅酸盐、____ 等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以 相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献____ 个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷（SiH4）分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4C1在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为___ 。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
①硅与碳同族，也有系列氢化物，但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多，原因是 。
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是____ 。
（6）在硅酸盐中，SiO44－四面体（如下图（a））通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为 。Si与O的原子数之比为 。
明矾水溶液呈____性，原因是___；（用离子方程式说明）。碳酸钠水溶液呈____性，原因是__
_．（用离子方程式说明）。把上述两溶液混合后呈现的现象有_，反应现象的离子方程式是．
下图是一些常见的单质．化合物之间的转化关系图，有些反应中的部分物质被略去。常温常压下，A为无色有毒气体，B为红棕色粉末，C、E为金属单质。反应①②均为工业上的重要反应。
请回答下列问题：
（1）D的电子式为_______________。（2）K的化学式为_______________。
（3）写出B与C高温反应生成E和F的化学方程式：______________。
（4）写出D与J的稀溶液反应生成G的离子方程式：______________。
（１）实验室用氢氧化钙和氯化铵加热制氨气的化学反应方程式为：
__________________________________________________________________
实验室制取氯气的化学反应方程式为
（2）若将标准状况下收集到的672 mL的氨气，溶于水配成100 mL的溶液，则氨水中NH3物质量浓度（不考虑NH3与H2O的反应）为：___________________mol·L-1。
据报道，
在全国各地发生了多起混合洁污剂发生氯气中毒的事件，发生反应的离子方程式是：ClO-＋Cl-＋2H+＝Cl2↑＋H2O，则该离子反应中氧化剂是_________，还原剂是__________，电子转移数是mol。
(8分)实验室里迅速制备少量氯气可利用以下反应：
2 KMnO4+16 HCl ="==" 2 KCl + 2 MnCl2 + 5 Cl2↑ + 8 H2O
此反应不需要加热，常温下就可以迅速进行，而且对盐酸的浓度要求不高。
(1)该反应中，氧化剂是__________，还原剂是_________。
(2) 当电子转移的数目为6.02×1023个时生成的氯气的物质的量为
mol
（⑶被氧化的还原剂的物质的量是mol