三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O 
2NO+HNO3+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 |
| B．HF是还原产物 |
| C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1 |
| D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 |
观察下列几个装置示意图，有关叙述正确的是
| A．装置①中阳极上析出红色固体 |
| B．装置②的待镀铁制品应与电源正极相连 |
| C．装置③中外电路电子由a极流向b极 |
| D．装置④的离子交换膜允许阳离子、阴离子、水分子自由通过 |
下列关于热化学反应的描述中正确的是
| A．需要加热才能发生的反应一定是吸热反应 |
| B．由C(s，石墨)===C(s，金刚石) ΔH＝+1.9 kJ·mol－1可知，金刚石比石墨稳定 |
| C．在稀溶液中：H＋(aq)＋OH－(aq)===H2O(l) ΔH＝－57.3 kJ·mol－1，则CH3COOH和NaOH反应的生成1mo水时放出的热量为57.3 kJ |
| D．CO（g）的燃烧热是283.0 kJ/mol，则2CO2（g）===2CO（g）+O2（g）反应的△H =" +2×283.0" kJ/mol |
关于下列装置说法正确的是
| A．装置①中，盐桥中的K＋移向CuSO4溶液 |
| B．装置①中，Zn为负极，发生还原反应 |
| C．装置②中的Fe发生析氢腐蚀 |
| D．装置②中电子由Fe流向石墨，然后再经溶液流向Fe |
单斜硫和正交硫是硫的两种同素异形体。
已知：①S(s，单斜) + O2(g) = SO2 (g) △H1= -297.16kJ·mol-1
②S(s，正交) + O2(g) = SO2 (g) △H2=" -296.83kJ·mol" -1
下列说法正确的是
| A．S(s，单斜) = S(s，正交) △H3 = +0.33kJ·mol -1 |
| B．正交硫比单斜硫稳定 |
| C．相同物质的量的正交硫比单斜硫所含有的能量高 |
| D．①式表示断裂lmol O2中的共价键所吸收的能量比形成1mol SO2中的共价键所放出的能量多297.16kJ |
关于反应3O2（g）
2O3（g），反应过程中能量的变化如图所示.下列有关该反应的ΔH、ΔS的说法中正确的是
| A．ΔH<0 ΔS<0 | B．ΔH>0 ΔS<0 |
| C．ΔH<0 ΔS>0 | D．ΔH>0 ΔS>0 |