用下列实验装置进行相应实验，能达到实验目的是
| A．用图甲所示装置制取少量的氨气 |
| B．用图乙所示装置配制一定物质的量浓度的硫酸 |
| C．用图丙所示装置从食盐水中提取NaCl |
| D．用图丁所示装置除去NO2中的NO |
半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅
SiO2(s)+2C(s)＝Si(s)+2CO(g)△H1＝+682.44kJ·mol-1
(石英砂） (粗硅）
Si(s)+2C12(g)＝SiCl4(l)△H2＝一657.01kJ·mol-1
(粗硅）
SiCl4(l)+2Mg(s)＝2MgCl2(s)+Si(s) △H3＝一625.63kJ·mol-1
（纯硅）
若生产1.00kg纯硅放出的热量为
| A．21.44kJ | B．600.20kJ | C．21435.71kJ | D．1965.10kJ |
向含有Fe2+、I-、Br-的溶液中通入适量氯气，溶液中各种离子的物质的量变化如下图所示。有关说法不正确的是
| A．线段BC代表Fe3+物质的量的变化情况 |
| B．原混合溶液中c(FeBr2)＝6mol/L |
| C．当通入Cl22mol时，溶液中已发生的离子反应可表示为： 2Fe2++2I-+2C12＝2Fe3++I2+4Cl- |
| D．原溶液中n(Fe2+):n(I-):n(Br-)＝2:1:3 |
对溶液中的反应，如图图像中m表示生成沉淀的物质的量，n表示参加反应的某一种反应物的物质的量，则下列叙述中错误的是
甲乙丙
| A．符合甲图像的两种反应物可以是AlC13和NaOH |
| B．符合乙图像的两种反应物可以是Ca(OH)2和CO2 |
| C．符合丙图像的反应可以是在Ca(OH)2和KOH的混合溶液中通入CO2 |
| D．符合丙图像的反应可以是在NH4Al(SO4)2溶液中加入NaOH |
等物质的量的N2、O2、CO2混合气体通过Na2O2后，体积变为原体积的8/9（同温同压），这时混合气体中N2、O2、CO2的物质的量之比为
| A．3:4:1 | B．3:3:2 | C．6:7:3 | D．6:9:0 |
下图中a、b、c表示相应仪器中加入的试剂，可用下图装置制取、净化、收集的气体是
| 编号 |
气体 |
a |
b |
c |
| A |
NH3 |
浓氨水 |
生石灰 |
碱石灰 |
| B |
CO2 |
盐酸 |
碳酸钙 |
饱和NaHCO3 |
| C |
NO |
稀硝酸 |
铜屑 |
H2O |
| D |
NO2 |
浓硝酸 |
铜屑 |
NaOH溶液 |