单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 。
(2)装置A中g管的作用是 ;装置C中的试剂是 ;装置E中的h瓶需要冷却理由是 。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:
①滴定前是否要滴加指示剂? (填“是”或“否”),请说明理由 。
②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 。
为了除去硝酸钾晶体中所含的硫酸钙和硫酸镁,先将它配成溶液,然后加入KOH、K2CO3、Ba(NO3)2等试剂,配以过滤、蒸发结晶等操作,制成纯净的硝酸钾晶体,其加入试剂的顺序正确的是
A.K2CO3——Ba(NO3)2——KOH——HNO3 |
B.Ba(NO3)2——KOH——HNO3——K2CO3 |
C.KOH——K2CO3——Ba(NO3)2——HNO3 |
D.Ba(NO3)2——KOH——K2CO3——HNO3 |
下列物质中属于纯净物、化合物、无机化合物、盐、钙盐的是
A.石灰石 | B.Ca(OH)2 | C.CaCO3 | D.CH4 |
现有三组溶液:①汽油和氯化钠溶液②39%的乙醇溶液⑧氯化钠和单质溴的水溶液,分离以上各混合液的正确方法依次是
A.分液、萃取、蒸馏 | B.萃取、蒸馏、分液 |
C.分液、蒸馏、萃取 | D.蒸馏、萃取、分液 |
某同学用托盘天平称量镁粉25.2g(1g以下用游码),他把镁粉放在右盘,当天平平衡时,所称取的镁粉的实际质量是
A.25.2g | B.25.8g | C.24.2g | D.24.8g |
某溶液中滴入BaCl2溶液,产生白色沉淀,再滴入稀硝酸,沉淀不溶解,则该溶液中
A.可能有SO42-或Ag+ | B.一定有SO42- |
C.一定无Ag+ | D.还可能有CO32- |