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(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。
在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂,产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3+3H2O2=     +6H2O
工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH△H<0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入浓度均为C(N2)="0.100mol/L," C(H2)=0.300mol/L进行反应时, N2的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示。

(1)该反应平衡常数的数学表达式            ;实验②平衡时H2的转化率为_______
(2)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出,并说明判断的理由。
②条件:_______     理由:                                     ________
③条件:_______     理由:                                     ________

科目 化学   题型 填空题   难度 中等
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A.B.C.D.

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