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题文

已知某溶液中只存在OH、H+、NH、Cl四种离子,某同学推测其离子浓度大小顺序有如下四种关系:
c(Cl)>c(NH)>c(H+)>c(OH
c(Cl)>c(NH)>c(OH)>c(H+
c(NH)>c(Cl)>c(OH)>c(H+
c(Cl)>c(H+)>c(NH)>c(OH
填写下列空白:
(1)若溶液中只溶解了一种溶质,则该溶质是_________,上述四种离子浓度的大小顺序为________(填序号)。
(2)若上述关系中③是正确的,则溶液中的溶质为_____________;若上述关系中④是正确的,则溶液中的溶质为____  ___。
(3)若该溶液是由体积相等的稀盐酸和氨水混合而成,且恰好呈中性,则混合前c(HCl)________c(NH3·H2O)(填“大于”“小于”或“等于”,下同),混合前酸中c(H+)和碱中c(OH)的关系:c(H+)_______c(OH)。
(4)将pH相同的NH4Cl溶液和HCl溶液稀释相同的倍数,则下面图像正确的是(填图像符号)________________;

科目 化学   题型 填空题   难度 未知
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有机物A为绿色荧光蛋白在一定条件下水解的最终产物之一,结构简式为:

请回答下列问题:(1)A的分子式为
(2)A与氢氧化钠溶液反应的化学方程式为
(3)已知:

两个A分子在一定条件下生成的化合物结构简式为。(4)符合下列4个条件的同分异构体有6种,写出其中三种。①1,3,5-三取代苯②遇氯化铁溶液发生显色反应③氨基与苯环直接相连④属于酯类

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:








制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:









(1)在制粗硅的反应中,焦炭的作用是








(2)整个制备过程必须严格控制无水、无氧。








①SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式    ;②H2还原SiHCl3过程中若混O2,可能引起的后果是








(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出







实验现象并给予解释    

将羧酸的碱金属盐电解可得到烃类化合物。例如:
2CH3COOK+2H2OCH3-CH3+2CO2↑+H2↑+2KOH
请根据下列表示的衍变关系,回答问题。

(1)写出下列物质的结构简式A: E: I
(2)G能发生反应的类型有(填序号):
  a.取代   b.加成   c.还原   d.氧化   e.消去   f.水解
(3)写出H的最简单的两种同系物的结构简式
(4)F与J的关系为(填序号) a.同一物质 b.同系物 c.同分异构体 d.同素异形体
(5)写出下列过程的化学方程式:
C→D:      C+E→F:

10分)A、B、C、D、E是位于短周期的主族元素,其中A、B为金属元素。已知:①热稳定性:HmD>HmC;②Cm、E(m-1)-具有相同的电子层结构;③B与E在同一周期,在该周期中,E的原子半径最小,B的离子半径最小;④A、B所形成的单核离子具有相同的电子层结构,B的最高价氧化物对应的水化物与A、E的最高价氧化物对应的水化物都能反应。依据上述信息回答下列问题:(1)HmD的电子式:___________________。

(2)Cm、E(m-1)-的还原性强弱为___________>___________(填离子符号),能证明其
还原性强弱的离子方程式为
(3)写出B的最高价氧化物对应的水化物和A的最高价氧化物对应的水化物反应的离子方程式_________________________________________________________。
(4)在B、C、E单质中,符合下列转化关系的是___________。(填元素符号)

有下列转化关系:
(1)若C是可用于自来水消毒的气体,A生成的B的反应为工业上冶炼金属B的反应,反应条件为电解,D、E是氧化物,D转化为E时增加氧的质量是总质量的25.8%,则写出A在一定条件下生成的C方程式, E的电子式为
(2)若E是酸酐,且为无色易挥发的晶体,A为气态氢化物,则A与D反应生成B的化学方程式为

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