向200 mL 某物质的量浓度的NaOH溶液中缓慢通入一定量的CO2，充分反应后，得到Na2CO3和NaHCO3的混合溶液。向上述所得溶液中，逐滴滴加2 mol·L－1的盐酸，所得气体的体积与所加盐酸的体积关系如图所示：
（1）OA段、AB段发生反应的离子方程式__________________、__________________。
（2）B点时，反应所得溶液中溶质的物质的量浓度是______________。
实验室用图I所示的装置制取干燥的氨气。
（1）A处反应的化学方程式为。
（2）为收集到干燥的氨气，导管C应接（填序号）。
（3）装置B中盛装的试剂的名称是。
（4）在水槽中加入水（含酚酞），将充满氨气的试管倒置于放入水槽中（如图Ⅱ所示），将拇指稍移开试管口，可观察到的现象为_______________。
（5）在D、E、F三种气体收集方法中，能用于收集NO的是________（填写序号）。
某无色待测液中可能含有Ag+、Fe3+、K+、Ba2+、NH4+等阳离子。某同学进行如下实验：
I．加入过量的稀盐酸，有白色沉淀生成。
II．过滤，取少许滤液，向其中加入过量的稀硫酸，又有白色沉淀生成。
III．另取少量步骤II中的滤液，加入NaOH溶液至溶液呈碱性，加热，可产生使湿润的红色石蕊试纸变蓝色的气体。
（1）待测液中一定含有的离子是__________，一定不含有的离子是___________。
（2）步骤III中产生气体的离子方程式为__________________。
现有一未配平的氧化还原反应：
KClO3＋PH3＋H2SO4→K2SO4＋H3PO4＋H2O＋X
（1）该反应的还原剂是_________。
（2）已知0.2 mol KClO3在反应中得到1 mol电子生成X，则X的化学式是__________。
（3）根据上述反应可推知__________________（填写序号）。
| A．氧化性：KClO3＞H3PO4 | B．氧化性：H3PO4＞KClO3 |
| C．还原性：PH3＞X | D．还原性：X＞PH3 |
电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板。
（1）FeCl3溶液与金属铜发生反应的离子方程式是。
（2）检验溶液中Fe3+存在的操作步骤和现象是。
（3）某工程师为了从使用过的腐蚀废液中回收铜，并重新获得氯化铁溶液，准备采用下列步骤：
上述实验中加入或生成的有关物质的化学式为②④____________
通入⑥得到FeCl3溶液的离子反应方程式为________________。