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题文

碘溶于碘化钾溶液中形成I3,并建立如下平衡:I3 I+ I2。实验室可以通过氧化还原滴定法测定平衡时I3的浓度
实验原理:
为了测定平衡时的c(I3) ,可用过量的碘与碘化钾溶液一起摇动,达平衡后取上层清液用标准的Na2S2O3滴定:2 Na2S2O3 + I2 =" 2NaI" + Na2S4O6
由于溶液中存在I3 I+ I2的平衡,所以用硫代硫酸钠溶液滴定,最终测得的是I2和I3的总浓度,设为c1,c1 = c(I2)+c(I3);c(I2) 的浓度可用相同温度下,测过量碘与水平衡时溶液中碘的浓度代替,设为c2,则c(I2)= c2,c(I3)=c1 —c2
实验内容:
1.用一只干燥的100 mL 碘量瓶和一只250 mL碘量瓶,分别标上1、2号,用量筒取80 mL 0.0100 mol.L-1 KI于1号瓶,取200 mL 蒸馏水于2号瓶,并分别加入0.5 g过量的碘。
2.将两只碘量瓶塞好塞子,振荡30分钟,静置。
3.分别取上层清液20 mL用浓度为c mol/L标准Na2S2O3溶液进行滴定。1号瓶消耗V1 mL Na2S2O3溶液,2号瓶消耗V2 mL Na2S2O3溶液。
4.带入数据计算c(I3)
试回答下列问题
(1)标准Na2S2O3溶液应装入   (填“酸式滴定管”或“碱式滴定管”),原因是   
(2)碘量瓶在震荡静置时要塞紧塞子,可能的原因是   
(3)滴定时向待测液中加入的指示剂是   ,到达滴定终点时的现象为   
(4)用c 、V1和V2表示c(I3)为   mol·L-1
(5)若在测定1号瓶时,取上层清液时不小心吸入了少量的I2固体,则测定的c(I3)   (填“偏大”、“偏小”或“不变”)

科目 化学   题型 实验题   难度 中等
知识点: 水的电离
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某学生做浓硫酸性质的实验:在一支试管中放入一块很小的铜片,再加入2mL浓硫酸,然后把试管固定在铁架台上。把一小条蘸有品红溶液的滤纸放入带有单孔橡皮塞的玻璃管中。塞紧试管口,在玻璃管口处缠放一团蘸有Na2CO3溶液的棉花。加热试管,观察现象。
回答下列问题:

(1)写出试管中发生反应的化学方程式
(2)试管中的液体反应一段时间后,b处滤纸条的变化为,待试管中反应停止后,给玻璃管放有蘸过品红溶液的滤纸处微微加热,滤纸条的变化为
(3)蘸有Na2CO3溶液的棉花团作用是
(4)硫酸型酸雨的形成过程可用下列反应中的来表示。

海水中含有大量的氯化镁,从海水中提取镁的生产流程如下图所示:

回答下列问题:
(1)写出在海水中加入氧化钙生成氢氧化镁的化学方程式
(2)操作①主要是指;试剂①可选用
(3)操作②是指;经操作③最终可得金属镁。

(16分)某实验小组用无水乙醇、乙酸与浓硫酸制取乙酸乙酯并提纯,已知乙醇可以和氯化钙反应生成微溶的CaCl2·6C2H5OH。
(1)制备乙酸乙酯装置如图所示,虚框内玻璃仪器名称为

(2)生成乙酸乙酯的化学反应方程式为;浓硫酸的作用是
(3)冷凝水流经冷凝管时应从口进入(填“a”或“b”);
(4)下列措施可提高乙酸的转化率可采取的有( )
A.增加乙醇的用量 B.蒸出乙酸乙酯
C.增加乙酸的用量 D.冷凝管中通热水
(5)实验所得乙酸乙酯远低于理论产量的可能原因。(写出其中两种)
(6)为了除去粗产品其中的醋酸,可向产品中加入溶液,在分液漏斗中充分振荡,然后静置,待分层后(填选项)。
A.直接将有机层从分液漏斗上口倒出
B.直接将有机层从分液漏斗下口放出
C.先将水层从分液漏斗的下口放出,再将有机层从下口放出
D.先将水层从分液漏斗的下口放出,再将有机层从上口倒出
(7)再向得到的有机物粗产品中加入饱和氯化钙溶液,振荡、分离。加入饱和氯化钙溶液的目的是
(8)最后,加入干燥剂除去其中的水分,再进行(填操作),即可得到纯净的乙酸乙酯。

下图为中学化学实验中的常见实验装置

(1)装置A可用于制备多种气体,请写出用A装置制备下列气体时,圆底烧瓶和分液漏斗中应装的化学试剂

气体
O2
CO2
HCl
试剂



(2)装置B可用于收集多种气体,若要用于收集Cl2,则进气管为________;若要收集CO,简述用装置B收集CO的方法________________________________
(3)现要用上述装置制取Cl2,并设计实验比较Cl2和I2的氧化性强弱,请在表格内依次填上所需的装置和试剂(可不填满)

装置
该装置中反应的离子方程式








硅单质及其化合物应用范围很广。制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

(1)第①步制备粗硅的化学方程式为________________________________。
第④步由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式为___________________________________。
(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图所示(热源及夹持装置均已略去):

①装置B中的试剂是________,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是________。
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是_______,装置D不能采用普通玻璃管的原因是________。
③SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式:________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是________;整个制备过程必须严格控制____________。
(3)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

A.碳化硅硬度大,可用于生产砂纸、砂轮等
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

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