晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3：Si＋3HCl
SiHCl3＋H2；
③SiHCl3与过量H2在1 000～1 100 ℃反应制得纯硅已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
请回答下列问题：
(1)第①步制备粗硅的化学方程式为_____________________________________________。
(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点－84.7 ℃)，提纯SiHCl3采用的方法为___________________________。
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)：
①装置B中的试剂是________。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是________________________________________________________________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是________，装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________，装置D中发生反应的化学方程式为_____________________________________________________________。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及___________________________________________________________。
1mol Na2SO4的质量为克，含有个氧原子，其水溶液的电离方程式为。
铝是一种重要金属：（1）生产中曾用铝热反应焊接钢轨，则铝与氧化铁发生反应的化学方程式为：
（2）工业上用铝土矿（主要成分为A12O3，还有少量的Fe2O3 ,SiO2等杂质）提取氧化铝作冶炼铝的原料，提取的操作过程如下：
①I和II步骤中分离溶液和沉淀的操作是；；
②沉淀M中除含有泥沙外，一定还含有，固体N是；
③滤液X中，含铝元素的溶质的化学式为，它属于（填“酸”、“碱”或“盐”）类物质；
④实验室里常往AlCl3溶液中加入（填“氨水”或“NaOH溶液”）来制取
A1（OH）3。其反应的离子方程式为：___________________________________________。
氧化还原反应中实际上包含氧化和还原两个过程。下面是一个还原过程的反应式：
NO3－＋4H＋＋3e－=NO＋2H2O ； KMnO4、Na2CO3、Cu2O、Fe2(SO4)3四种物质中的一种物质（甲）能使上述还原过程发生。
（1）写出并配平该氧化还原反应的方程式：。
（2）反应中硝酸体现了、性质。
（3）反应中若产生0.2mol气体，则转移电子的物质的量是mol。
（4）若1mol甲与某浓度硝酸反应时，被还原硝酸的物质的量增加，原因是：
。
（5）KMnO4在酸性溶液中发生还原反应的反应式:______。
为了探究Cl2、SO2同时通入H2O中发生的反应，某校化学兴趣小组同学设计了如下图所示的实验装置。试填空。
（1）D装置中主要反应的离子方程式为，
F仪器的作用是：。
（2）为验证通入D装置中气体是Cl2还是SO2过量，兴趣小组的同学准备了以下试剂：
a 氯化铁稀溶液 b 氯化亚铁溶液 c硫氰化钾溶液
d 苯酚溶液 e 品红溶液 f 酸性高锰酸钾溶液
①若Cl2过量：取适量D中溶液滴加至盛有（选填一个符号）试剂的试管内，再加入_（选填一个符号）试剂，发生的现象是：；
②若选用上述试剂中的一种结合必要的操作就可以验证通入C装置中气体是Cl2过量还是SO2过量，该试剂是_________。（选填一个符号）
必要操作和结论______________________________________。
已知：A、B为常见的非金属单质且均为气体；甲、乙为金属单质，乙在I的浓溶液中发生钝化；C、H、J的溶液均呈碱性．各物质间的转化关系如下(部分生成物未给出，且未注明反应条件)：
(1)写出反应②的化学方程式为_________________________________________。
(2)反应④中每消耗1 mol G，转移电子的物质的量为______________。
(3)反应⑥的离子方程式是___________________________________________。
(4)实验室中保存I的方法是____________________________。