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单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息:①四氯化硅遇水极易水解;②SiCl4沸点为57.7℃,熔点为-70.0℃。请回答:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式                                          
(2)装置C中的试剂是             ;装置F的作用是                            
装置E中的h瓶需要冷却的理由是                                            
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中含有铁元素,为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定。
①反应的离子方程式:                                                       
②滴定前是否要滴加指示剂?    (填“是”或“否”),请说明理由                  
③滴定前检验Fe3是否被完全还原的实验操作是                                 

科目 化学   题型 实验题   难度 较难
知识点: 常见气体制备原理及装置选择
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用18 mol·L-1浓硫酸配制100 mL 3.0 mol·L-1稀硫酸的实验步骤如下:
①计算所用浓硫酸的体积 ②量取一定体积的浓硫酸③溶解 ④转移、洗涤 ⑤定容、摇匀
完成下列问题:
(1)所需浓硫酸的体积是________,量取浓硫酸所用的量筒的规格是________(从下列中选用A.10 mL B.25 mL C.50 mL D.100 mL)。
(2)第③步实验的操作是________________________________。
(3)第⑤步实验的操作是________________________________。
(4)下列情况对所配制的稀硫酸浓度有何影响?(用“偏大”“偏小”“无影响”填写)
A.所用的浓硫酸长时间放置在密封不好的容器中________________________________
B.容量瓶用蒸馏洗涤后残留有少量的水________________
C.所用过的烧杯、玻璃棒未洗涤________________
D.定容时俯视刻度线________________

欲配制100 mL 1.0 mol·L-1 Na2SO4溶液,正确的方法是(  )
①将14.2 g Na2SO4溶于100 mL水中 ②将32.2 g Na2SO4·10H2O溶于少量水中,再用水稀释至100 mL ③将20 mL 5.0 mol·L-1 Na2SO4溶液用水稀释至100 mL

A.①②
B.②③
C.①③
D.①②③

为了将混有Na2SO4、NaHCO3的NaCl提纯,并制得纯净的NaCl溶液,某学生设计了如图所示的实验方案:

(1)操作①盛放药品可选用________。(填仪器名称)
(2)操作②为什么不用Ba(NO3)2溶液,其理由是
________________________________________。
(3)进行操作②后,如何判断SO已除尽?方法是________________________________。
(4)操作③的目的是_______;为何不先过滤后加Na2CO3溶液,其理由是________________。
(5)此设计方案是否严密?请说明理由________________。

氯化钠样品中含有少量的Na2SO4和Na2CO3,按下列流程进行净化。
(1)请在流程中的(  )中写上合适的试剂,在[  ]中写上实验操作名称。

(2)写出有关反应的化学方程式:
第②步________________
第③步________________
第⑤步________________

有A、B、C三瓶失去标签的无色溶液:K2CO3、BaCl2、NaSO4。将它们分别与H2SO4作用,A产生白色沉淀,B产生无色气体,C中无明显现象。则A是________,B是________, C是________。

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