为了测定草酸晶体（H2C2O4·xH2O）中的x值，进行如下实验：
①称取Wg草酸晶体，配成100.00mL溶液。
②取25.00mL所配溶液于锥形瓶内，加入适量稀H2SO4，用amol/L KMnO4溶液滴定。
试回答：
（1）写出滴定过程中反应的化学方程式： 。
（2）实验中，标准液KMnO4应装在 （填“酸式”或“碱式”）滴定管中。滴定终点时溶液由
色变为 色，且在30s内颜色不再恢复为原来颜色。
（3）若在接近滴定终点时，用少量蒸馏水将锥形瓶内壁冲洗一下，再继续滴至终点，则所测得的x值会 （填“偏大”、“偏小”或“无影响”）。
（4）在滴定过程中若用去amol/L KMnO4溶液VmL，则所配制的草酸溶液的物质的量浓度为
mol/L，由此x＝ 。
（5）若滴定终点读数时俯视，则计算的x值会 （填“偏大”、“偏小”或“无影响”）。
(9分)A、B、C是中学常见的三种非金属单质，常温下B为无色气体，A、C为固体，甲、乙、丙为中学常见的三种化合物，常温下C易溶于乙中，A、B、C与甲、乙、丙之间的转化关系如下图所示：
(1)写出C转化为丙的化学方程式________________________________________。
(2)常温下，按右图装配装置，待内外气体压强不变时，水银柱液面在M处，取下橡皮塞，在玻璃燃烧匙中加入乙，乙在B中充分燃烧，水银柱推向左管。
简要回答下列问题：
①写出乙燃烧的化学方程式：_____________________________________________。
②水银柱推向左管的原因是______________________________________________。
③火焰熄灭后，静置一段时间恢复到原温度，右管水银的位置应该是________。
A．仍在M处 B．高于M处 C．低于M处
做出选择后，简要说明理由_______________________________________________。
④用下图所示装置检验乙燃烧的产物A、B、C、D中所盛放的药品名称是：
A．________ B．________ C．________ D．________
(9分)某兴趣小组探究SO2气体还原Fe3＋、I2，他们使用的药品和装置如下图所示：
(1)SO2气体还原Fe3＋的产物是________、________(填离子符号)，参加反应的SO2和Fe3＋的物质的量之比是____。
(2)下列实验方案适用于在实验室制取所需SO2的是________(填序号)。
A．Na2SO3溶液与HNO3B．Na2SO3固体与浓硫酸
C．固体硫在纯氧中燃烧 D．铜与热浓H2SO4
(3)装置C的作用是____________________________________________________。
(4)若要从A中所得溶液提取晶体，必须进行的实验操作步骤：蒸发、冷却结晶、________、自然干燥，在这一系列操作中没有用到的仪器有________(填序号)。
A．蒸发皿 B．石棉网 C．漏斗 D．烧杯 E．玻璃棒 F．坩埚
(5)在上述装置中通入过量的SO2，为了验证A中SO2与Fe3＋发生了氧化还原反应，他们取A中的溶液，分成三份，并设计了如下实验：
方案①：往第一份试液中加入KMnO4溶液，紫红色褪去
方案②：往第二份试液中加入KSCN溶液，不变红，再加入新制的氯水，溶液变红
方案③：往第三份试液中加入用稀盐酸酸化的BaCl2，产生白色沉淀。
上述方案不合理的是________，原因是____________________________________。
(6)能表明I－的还原性弱于SO2的现象是____________________________________。
(1)用过量铜片与0.2 mol浓H2SO4共热足够长时间(只考虑铜与浓H2SO4反应，忽略其他副反应)，甲认为产生的SO2少于0.1 mol，理由是________________________________________________________________________
________________________________________________________________________；
而乙同学认为产生的SO2为0.1 mol，理由是_____________________________________________。
(2)实验证明铜不能在低温下与O2反应，也不能与稀H2SO4共热发生反应，但工业上却是将废铜屑倒入热的稀H2SO4中并通入空气来制备CuSO4溶液的。铜屑在此状态下被溶解的化学方程式为___________________________________________________________。
利用铜制备CuSO4的另一种方法可用化学方程式表示为_________________________________________。
以上两种方法________(填“前”或“后”)者好，原因是_____________________。
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
| 物质 |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
| 沸点/℃ |
57.7 |
12.8 |
— |
315 |
— |
| 熔点/℃ |
－70.0 |
－107.2 |
— |
— |
— |
| 升华温度/℃ |
— |
— |
180 |
300 |
162 |
请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式______________________。
(2)装置A中g管的作用是________；装置C中的试剂是________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是__________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
(9分)由Fe2O3、Fe、CuO、C、Al中的几种物质组成的混合粉末，取样品进行下列实验(部分产物略去)：
(1)取少量溶液X，加入过量的NaOH溶液，有沉淀生成。取上层清液，通入CO2，无明显变化，说明样品中不含有的物质是(填写化学式)________。
(2)Z为一种或两种气体：
①若Z只为一种气体，试剂a为饱和NaHCO3溶液，则反应Ⅰ中能同时生成两种气体的化学方程式是____________________________________________________________
________________________________________________________________________。
②若Z为两种气体的混合物，试剂a为适量水，则Z中两种气体的化学式是________。
(3)向Y中通入过量氯气，并不断搅拌，充分反应后，溶液中的阳离子是(填写离子符号)________。
(4)取Y中的溶液，调pH约为7，加入淀粉KI溶液和H2O2，溶液呈蓝色并有红褐色沉淀生成。当消耗2 mol I－时，共转移3 mol电子，该反应的离子方程式是________。
(5)另取原样品，加入足量稀硫酸充分反应。若溶液中一定不会产生Y中的红色固体，则原样品中所有可能存在的物质组合是(各组合中的物质用化学式表示)________。