(10分)（1）已知某溶液中只存在OH－、H＋、NH4＋、Cl－四种离子，某同学推测其离子浓度大小顺序有以下几种：
A．c(Cl－)＞c(NH4＋)＞c(H＋)＞c(OH－)
B．c(Cl－)＞c(NH4＋)＞c(OH－)＞c(H＋)
C．c(NH4＋)＞c(Cl－)＞c(OH－)＞c(H＋)
D．c(Cl－)＞c(H＋)＞c(NH4＋)＞c(OH－)
①上述关系一定不正确的是________(填序号)。
②若溶液中只有一种溶质，则该溶液中离子浓度的大小关系为________(填序号)。
③若四种离子浓度关系有c(NH4＋)＝c(Cl－)，则该溶液显________(填“酸性”、“碱性”或“中性”)。
（2）常温下，有A、B、C、D四种无色溶液，它们分别是CH3COONa溶液、NH4Cl溶液、盐酸和NaNO3溶液中的一种。已知A、B的水溶液中水的电离程度相同，A、C溶液的pH相同。则：B是________溶液，C是________。
物质A～F有如图所示的转化关系。已知A、B、C均为单质，且室温下A为用途广泛的金属、B为黄绿色气体、C为密度最小的无色气体，E为气体，E溶液呈强酸性且无色，D溶液呈黄色。
请回答下列问题：
（1）写出下列物质的化学式：A、B 、C 、D 、E 、F 。
（2）写出反应②的化学方程式：。
（3）写出反应③的离子方程式：。
写出实验室制取NH3的化学反应方程式为_______；常用干燥NH3 ；收集时应用法收集；检验NH3是否已充满试管的方法是。
氯气的用途十分广泛，除用于净水、环境消毒外，还用于生产盐酸、硅等。
（1）工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉，漂白粉的有效成分是。
（2）工业上生产半导体材料硅的流程如下：
①写出制备粗硅时反应的化学方程式：。
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅中常混有一些高沸点、难挥发性液态杂质，必须进行分离提纯，其提纯方法为（填字母）。
| A．蒸馏 | B．过滤 | C．萃取 | D．结晶 |
（3）为防止污染空气，常用溶液吸收多余的氯气。
已知氧化还原反应与四种基本反应类型的关系可用如图表示，下列是有水参加或生成的几种反应：
①CaO+H2O =Ca(OH)2
②2Na+H2O=2NaOH+H2↑
③H2+CuO 
Cu +H2O
④3S+6NaOH 2Na2S +Na2SO3 +3H2O
⑤NaOH+HCl=NaCl+H2O
请回答下列问题：
（1）反应①中水（填字母）。
| A．是氧化剂 |
| B．是还原剂 |
| C．既是氧化剂又是还原剂 |
| D．既不是氧化剂又不是还原剂 |
（2）反应③被氧化的元素是（填元素符号）。
（3）上述反应中，属于区域Ⅲ的是 （填序号）。
（4）写出一种符合区域Ⅴ且既有沉淀生成又有水生成的离子方程式：。
氢气是一种新型的绿色能源，又是一种重要的化工原料。
（1）氢气燃烧热值高。实验测得，在常温常压下，1 g H2完全燃烧生成液态水，放出142.9 kJ热量。则H2燃烧热的化学方程式为 。
（2）氢气是合成氨的重要原料，合成氨反应的热化方程式如下：N2(g)＋3H2(g)
2NH3(g)；ΔH＝－92.4 kJ/mol
①当合成氨反应达到平衡后，改变某一外界条件(不改变N2、H2和NH3的量)，反应速率与时间的关系如下图所示。图中t1时引起平衡移动的条件可能是其中表示平衡混合物中NH3的含量最高的一段时间是
②温度为T ℃时，将2 a mol H2和a mol N2放入0.5 L密闭容器中，充分反应后测得N2的转化率为50%。则反应的平衡常数为