现有下列电解质溶液：①Na2CO3 ②NaHCO3 
④CH3COONH4
⑤NH4HCO3
（1）在这五种电解质溶液中，既能与盐酸又能与烧碱溶液反应的是（填写序号）
（2）已知酸性
。常温下，物质的量浓度相同的①、②、③溶液pH大小顺序为（填序号） > >
（3）写出⑤与足量NaOH溶液混合加热反应的离子方程式
（4）已知常温下CH3COONH4溶液呈中性，根据这一事实推测⑤溶液的pH 7（填>、=或<）理由是
已知：
为合成某种液晶材料中间体M，有人提出如下不同的合成途径：
(1)常温下，下列物质能与A发生反应的有(填序号)
a．苯 b．Br2/CCl4 c．乙酸乙酯 d．KMnO4/H+溶液
(2)M中官能团的名称是，由C→B反应类型。
(3)由A催化加氢生成M的过程中，可能有中间生成物
和(写结构简式)生成。
(4)检验B中是否含有C可选用试剂是(任写一种名称)。
(5)物质B也可由C10H13Cl与NaOH水溶液共热生成，C10H13Cl的结构简式
(6)C的一种同分异构体E具有如下特点：
a．分子中含-OCH2CH3 b．苯环上只有两种化学环境不同的氢原子
写出E在一定条件下发生加聚反应的化学方程式。
硅在地壳中的含量较高。硅及其化合物的开发由来已久，在现代生活中有广泛应用。回答下列问题：
(1)1810年瑞典化学家贝采利乌斯在加热石英砂、木炭和铁时，得到一种“金属”。这种“金属”可能是。
(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸盐材料。其中，生产普通玻璃的主要原料有。
(3)高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如下：
①用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热也可以生产碳化硅，该反应的化学方程式为；碳化硅又称，其晶体结构与相似。
②在流化床反应的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有关物质的沸点数据如下表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和。
| 物质 |
Si |
SiCl4 |
SiHCl3 |
SiH2Cl2 |
SiH3Cl |
HCl |
SiH4 |
| 沸点/℃ |
2355 |
57.6 |
31.8 |
8.2 |
-30.4 |
-84.9 |
-111.9 |
③SiHCl3极易水解，其完全水解的产物为。
(4)氯碱工业可为上述工艺生产提供部分原料，这些原料是。
请回答下列问题：
(1)N、Al、Si、Zn四种元素中，有一种元素的电离能数据如下：
| 电离能I1I2I3I4… |
| In/kJ．mol-15781817274511578… |
则该元素是(填写元素符号)。
(2)基态锗(Ge)原子的电子排布式是，Ge的最高价氯化物分子式是，该元素可能的性质或应用有；
A．是一种活泼的金属元素 B．其电负性大于硫
C．其单质可作为半导体材料 D．其最高价氯化物的沸点低于其溴化物的沸点
(3)关于化合物
，下列叙述正确的有
A．分子间可形成氢键
B．分子中既有极性键又有非极性键
C．分子中有7个σ键和1个π键
D．该分子在水中的溶解度大于2-丁烯
(4)NaF的熔点
的熔点(填＞、=或＜)，其原因是。
可降解聚合物P的合成路线如下：
已知：
(1)A的含氧官能团名称是。
(2)羧酸a的电离方程是。
(3)B→C的化学方程式是。
(4)化合物D苯环上的一氯代物有2种，D的结构简式是。
(5)E→F中反应①和②的反应类型分别是。
(6)F的结构简式是。
(7)聚合物P的结构简式是。
废旧硬质合金刀具中含碳化钨（WC）、金属钴（Co）及少量杂质铁，利用电解法可回收WC和Co，工艺流程简图如下：
（1）电解时废旧刀具做阳极，不锈钢做阴极，HCl溶液为电解液，阴极主要的电极反应为；
（2）净化步骤所得滤饼的主要成分是Fe(OH)3，回收的洗涤液代替水配制电解液，目的是回收利用其中的；
（3）溶液I的主要成分是NH4Cl，洗涤CoC2O4不充分对最终产品纯度并无明显影响，但焙烧时会造成环境污染，原因是；
（4）将Co2O3还原成Co粉的化学方程式为。