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题文

下表中的数据是破坏1 mol物质中的化学键所消耗的能量(kJ):

物质
Cl2
Br2
I2
HCl
HBr
HI
H2
能量/kJ
243
193
151
432
366
298
436

根据上述数据回答(1)~(5)题。
(1)下列物质本身具有的能量最低的是    。 
A.H2   B.Cl2                   C.Br2  D.I2
(2)下列氢化物中,最稳定的是    。 
A.HCl     B.HBr     C.HI
(3)X2+H22HX(X代表Cl、Br、I )的反应是吸热反应还是放热反应?答: 。 
(4)相同条件下,X2(X代表Cl、Br、I)分别与氢气反应,当消耗等物质的量的氢气时,放出或吸收的热量最多的是     。 
(5)若无上表中的数据,你能正确回答出问题(4)吗?
答:     ,你的根据是 。 

科目 化学   题型 填空题   难度 中等
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A、B、C、D、E是原子序数依次增大的5种短周期元素。A、E同主族,B、C是同周期相邻的两种元素。A、C的质子数之和等于D的质子数,A+离子与D2离子的核外电子数之和等于E+ 离子的核外电子数。请回答下列问题:
(1)A、D元素按1 :1组成的化合物的结构式为_______
(2)常见化合物W由A、D、E三种元素组成,则W中含有的化学键有_______
若以W溶液为电解质溶液,铁棒为电极构成电解池,该电解反应的总反应方程式为:
(3)在恒容密闭容器中注入A2、C2两种气体,发生如下反应:3A2(g)+C2(g)2CA3(g),在某温度下达到平衡时,各物质的浓度分别为:c(A2)=9.00mol/L;(C2)=3.00mol/L,c(CA3)=4.00mol/L。则C2的起始浓度为mol/L;A2的转化率为_______%0
(4)A、C、D三种元素按原子个数比4︰2︰3形成的化合物溶于水,所得溶液呈酸性,用离子方程式解释其原因
(5)用E2D2在酸性条件下处理含CN的工业废水,将得到N2及CO2等无污染的物质,请写出该反应的离子方程式_____________________

对于平衡体系mA(g)+nB(g)pC(g)+qD(g) ; ΔH<0。下列结论中不正确的是
A.若温度不变压强增大到原来的2倍,达到新平衡时,总体积一定比原来的1/2要小
B.若平衡时,A、B的转化率相等,说明反应开始时,A、B的物质的量之比为m∶n
C.若m+n=p+q,则往含有a mol气体的平衡体系中再加入a mol的B,达到新平衡时,气体的总物质的量等于2a
D.若温度不变,将容器的体积缩小到原来的一半,此时A的浓度为原来的2.1倍,则m+n<p+q

(选修5-有机化学基础)两种有机物A、B的分子式均为C11H12O5,均能发生如下变化。

已知:①A、B、C、D均能与NaHCO3反应;
②只有A、D能与FeCl3溶液发生显色反应,且苯环上的一溴代物只有两种;
③F能使溴水褪色且不含有甲基;
④H能发生银镜反应
请根据题意回答下列问题:
(1)写出F的结构简式________;D的含氧官能团有(写名称)________。
(2)反应③的反应类型是_________;反应⑥的条件是__________。
(3)写出反应②的化学方程式__________________________。
(4)写出B与足量NaOH溶液反应的化学方程式:________________。
(5)下列关于A~I的说法中错误的是(选填编号)。
a.A与B、E与I均互为同分异构体
b.D在一定条件下也可以反应形成高聚物
c.G具有8元环状结构
d.等质量的A与B分别与足量NaOH溶液反应,消耗等量的NaOH
(6)D的同分异构体有很多,同时符合下列要求的同分异构体有种。
①苯环上的一卤代物有2种②与FeCl3溶液发生显色反应③发生银镜反应

(选修3-物质结构与性质)(★限选)
已知X、Y和Z三种元素的原子序数之和等于48。X的一种1:1型氢化物分子中既有σ键又有π键。Z是金属元素,Z的单质和化合物有广泛的用途。已知Z的核电荷数小于28,且次外层有2个未成对电子。工业上利用ZO2和碳酸钡在熔融状态下制取化合物M(M可看做一种含氧酸盐)。M有显著的“压电性能”,应用于超声波的发生装置。经X射线分析,M晶体的最小重复单位为正方体(如下图),边长为4.03×10-10m,顶点位置为Z4+所占,体心位置为Ba2+所占,所有棱心位置为O2-所占。

(1)Z4+的核外电子排布式为
(2)X在该氢化物中以方式杂化。X和Y形成的化合物的熔点应该(填“高于”或“低于”)X氢化物的熔点。
(3)①在M晶体中,若将Z“置于立方体的体心,Ba2+置于立方体的顶点,则O2-处于立方体的
②在M晶体中,Z4+的氧配位数为
(4)制备M的化学反应方程式是

(16分)实验室以氯化铁腐蚀印刷电路铜板后的溶液(简称“腐蚀废液”)为主要原料来制备氯化铁晶体,从而重新用作腐蚀印刷电路铜板的试剂。该制备流程如下:

请回答下列问题:
(1)操作I和操作Ⅱ相同,其中操作I加入的试剂W是(填写名称),操作Ⅱ和操作Ⅲ都使用的玻璃仪器名称是,其中操作Ⅲ中该仪器的作用是
(2)进行操作Ⅲ前需要通入气体V,该气体化学式是,若将溶液U加热蒸干灼烧后得到的固体物质化学式是
(3)请写出实验室制取气体V的反应的离子方程式:
(4)若通人的V的量不足,则最后制得的氯化铁晶体不纯净,这是因为溶液U中含有杂质。请设计合理的实验,验证溶液U中的成分,并判断通入的V的量是否不足(简要说明实验步骤、现象和结论)。供选择的试剂:酸性KMnO4溶液、KSCN溶液、氯水。
(5)几种离子开始沉淀时的pH如下表:

离子
Cu2+
Fe2+
Mg2+
pH
5.2
7.6
10.4

当向含相同浓度Cu2+、Mg2+、Fe2+离子的溶液中滴加NaOH溶液时,(填离子符号)先沉淀,Ksp[Mg(OH)2]Ksp[Fe(OH)2](填“>”、“=”或“<”)。

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