近年来，我国的电子工业迅速发展，造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的（HCl—H2O2）、碱性的（NH3—NH4Cl）以及传统的（HCl—FeCl3）等3种。蚀刻废液中含有大量的Cu2+，废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下：
⑴ FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂，可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，还
有 、 。（用离子方程式表示）。
⑵ HCl—H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为：
。
⑶ H2O2型酸性废液处理回收微米级Cu2O过程中，加入的试剂A的最佳选择是下列中的 （填序号）
①酸性KMnO4溶液 ②NaCl(固) ③葡萄糖 ④甲醛
⑷ 处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度，当温度高于80℃时，产品颜色发暗，其原因可能是 。
⑸ 碱性蚀刻液在蚀刻过程中发生的化学反应是：2Cu+4NH4Cl+4NH3·H2O+O2 = 2Cu(NH3)4Cl2+6H2O，处理碱性蚀刻废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3的目的是 。
（1）0.5mol H2SO4的质量是 g，含 个氧原子，能和 molNaOH完全反应，该硫酸所含氢元素的质量与 mol H3PO4或标准状况下 L HCl气体中所含氢元素的质量相同．
（2）相同质量的SO2、SO3的物质的量之比为__________；氧原子的个数之比为________。
（3）26.7 g某三价金属氯化物(RCl3)中含有0.6 mol Cl－，则RCl3的摩尔质量是____________g/mol；R的相对原子质量是____________；RCl3的化学式是__________。
（4）等物质的量的Na、Mg、Al分别于足量盐酸反应，产生H2的质量之比为 ．
现有以下几种物质请用其对应的序号填空：①氧化钙 ②稀硫酸 ③二氧化硫 ④熔融的BaSO4⑤铜 ⑥氢氧化钠 ⑦蔗糖
（1）上述物质属于电解质的是 ；（2）属于非电解质的是 ；
（3）能导电的是 ；（4）任选一个电解质写出其电离方程式： ．
以 H、C、O、Na、Cl、Cu中一种或多种元素组成合适的物质，按下列要求完成各小题
（1）写出一种符合下列要求的物质的化学式：
| 分类标准 |
碱性氧化物 |
碱 |
含氧酸 |
盐 |
| 属于该类的物质 |
① |
NaOH |
② |
③ |
①___________，②____________，③___________
（2）写出一个无氧酸与碱反应的化学方程式_________________
（3）写出一个置换反应的化学方程式_______________________
用下面的原子或离子结构示意图的编号(A、B、C、D)填空：
A.
B.
C.
D.
（1）电子层排布相同的是________________；
（2）属于同种元素的是__________________；
（3）属于金属元素的是____________；其离子的结构示意图___________。
（4）属于稀有气体元素的是________，稀有气体一般不参加化学反应的原因是_____________；
选择下列一种方法分离物质，将分离方法的序号填在横线上．
A萃取 B升华 C结晶 D分液 E蒸馏 F过滤
（1）从溴水中提取溴_________
（2）从含有少量氯化钾的硝酸钾混合液中获得硝酸钾_________
（3）分离水和汽油的混合物_________
（4）分离酒精（沸点为78.1℃）和甲苯（沸点为110.6℃）两种互溶液体_________．